講演抄録/キーワード |
講演名 |
2019-11-21 13:55
ALDにより成膜したSiO2/Al2O3 2層絶縁膜を用いたAlGaN/GaN MIS-HEMTのデバイス特性評価 ○横井駿一・古岡啓太・久保俊晴・江川孝志(名工大) ED2019-41 CPM2019-60 LQE2019-84 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2019-41 CPM2019-60 LQE2019-84 |
抄録 |
(和) |
SiO2はバンドギャップが約9 eVと大きいため、原子層堆積(ALD)によってAl2O3とSiO2との2層絶縁膜を形成することにより、絶縁体/半導体の界面特性が良く、ゲートリーク電流(Ig)の低い、GaN系半導体に対するMIS構造を作製することができる。我々は、まず、ALD-SiO2に対して絶縁膜形成後のアニール(PDA)を種々のアニール雰囲気で行い、ALD-SiO2/AlGaN/GaN MIS-HEMTのデバイス特性に及ぼすアニール雰囲気の効果について評価を行った。この際、SiO2/AlGaN界面における化学状態をXPS、SIMSにより評価した。O2-PDAでは、N2-PDAよりも低温のPDAでH不純物の減少が生じることを確認した。次に、ALDにより作製したSiO2/Al2O3/AlGaN/ GaN MIS-HEMTのデバイス特性を評価した。この結果、SiO2成膜後にO2プラズマ処理を施したものが最も良好なI-V特性を示した。 |
(英) |
SiO2 has a relatively large band gap of approximately 9 eV. Therefore, by fabricating SiO2/Al2O3 double insulators, GaN-based MIS-structures that have good insulator/semiconductor interfaces and low gate leakage currents can be obtained. Firstly, we conducted the post-deposition annealing (PDA) in various annealing atmosphere and evaluated the effect of annealing ambient on device characteristics of ALD-SiO2/AlGaN/GaN MIS-HEMTs. We also evaluated the chemical characteristics of SiO2/AlGaN interfaces by XPS and SIMS. It was confirmed that O2-PDA reduces the amount of H impurity at a lower temperature than N2-PDA. Finally, SiO2/Al2O3/AlGaN/GaN MIS-HEMTs were fabricated using ALD, and the electrical characteristics were investigated. As a result, the MIS-HEMT fabricated using O2-plasma treatment after the SiO2 deposition showed good I-V characteristics. |
キーワード |
(和) |
GaN / MIS / HEMT / ALD / PDA / Al2O3 / SiO2 / |
(英) |
GaN / MIS / HEMT / ALD / PDA / Al2O3 / SiO2 / |
文献情報 |
信学技報, vol. 119, no. 302, ED2019-41, pp. 37-40, 2019年11月. |
資料番号 |
ED2019-41 |
発行日 |
2019-11-14 (ED, CPM, LQE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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