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| 講演名 | 2019-11-15 16:35 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 ○小平行秀・東 梨奈（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア）  VLD2019-53 DC2019-77 |
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| 抄録 | （和） | 製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化によって改善する技術を光近接効果補正(Optical Proximity Correction, OPC) と呼び，光リソグラフィの進展において重要な役割を担っている．本稿では，マスク最適化問題に対して，ラグランジュ緩和法と劣勾配法を用いることで，プロセスばらつきに対する耐性を持つマスクを生成する手法を提案する．計算機実験において，パタンの忠実度が高く，プロセスばらつきへの耐性が高いマスクを短時間で提案手法により生成可能であることを確認する． |
| （英） | Due to miniaturization of process technology, progressing manufacturing process by optical lithography is required. In resolution enhancement techniques in the optical lithography, Optical Proximity Correction (OPC), which improves shape fidelity of formed patterns on wafers against designed target patterns by mask optimization, is essential to progress the optical lithography. In this paper, a mask optimization method by using Lagrangean relaxation method and subgradient method is proposed to generate masks with high tolerance against process variation. Experimental results show that the proposed method obtains masks with high shape fidelity and high tolerance against process variation in short computational times. | |
| キーワード | （和） | 光リソグラフィ / マスク最適化 / 光近接効果補正 / 劣勾配法 / ラグランジュ緩和法 / / / |
| （英） | optical lithography / mask optimization / Optical Proximity Correction (OPC) / subgradient method / Lagrangean relaxation method / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 119, no. 282, VLD2019-53, pp. 197-202, 2019年11月. | |
| 資料番号 | VLD2019-53 | |
| 発行日 | 2019-11-06 (VLD, DC) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2019-53 DC2019-77 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD DC CPSY RECONF ICD IE IPSJ-SLDM IPSJ-EMB |
| 開催期間 | 2019-11-13 - 2019-11-15 |
| 開催地（和） | 愛媛県男女共同参画センター |
| 開催地（英） | Ehime Prefecture Gender Equality Center |
| テーマ（和） | デザインガイア2019 -VLSI設計の新しい大地- |
| テーマ（英） | Design Gaia 2019 -New Field of VLSI Design- |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2019-11-VLD-DC-CPSY-RECONF-ICD-IE-SLDM-EMB-ARC |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Mask Optimization Considering Process Variation by Subgradient Method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光リソグラフィ / optical lithography |
| キーワード(2)（和/英） | マスク最適化 / mask optimization |
| キーワード(3)（和/英） | 光近接効果補正 / Optical Proximity Correction (OPC) |
| キーワード(4)（和/英） | 劣勾配法 / subgradient method |
| キーワード(5)（和/英） | ラグランジュ緩和法 / Lagrangean relaxation method |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小平 行秀 / Yukihide Kohira / コヒラ ユキヒデ |
| 第1著者 所属（和/英） | 会津大学 (略称： 会津大) The University of Aizu (略称： Univ. of Aizu) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 東 梨奈 / Rina Azuma / アヅマ リナ |
| 第2著者 所属（和/英） | 会津大学 (略称： 会津大) The University of Aizu (略称： Univ. of Aizu) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松井 知己 / Tomomi Matsui / マツイ トモミ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi / タカハシ アツシ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama / コダマ チカアキ |
| 第5著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社 (略称： キオクシア) KIOXIA Corporation (略称： KIOXIA) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2019-11-15 16:35:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2019-53, DC2019-77 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | no.282(VLD), no.283(DC) |
| ページ範囲 | pp.197-202 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2019-11-06 (VLD, DC) |
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