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講演抄録/キーワード
講演名 2019-11-07 14:10
[招待講演]ビーム実験による原子スケールプロセスにおける表面反応解析
唐橋一浩伊藤智子浜口智志阪大SDM2019-71
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 119, no. 273, SDM2019-71, pp. 11-16, 2019年11月.
資料番号 SDM2019-71 
発行日 2019-10-31 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2019-71

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2019-11-07 - 2019-11-08 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, Circuit simulation, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2019-11-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ビーム実験による原子スケールプロセスにおける表面反応解析 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Surface Reaction Analyses for Atomic Scale Processing by Beam Experiments 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 唐橋 一浩 / Kazuhiro Karahashi / カラハシ カズヒロ
第1著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 智子 / Tomoko Ito / イトウ トモコ
第2著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 浜口 智志 / Satoshi Hamaguchi / ハマグチ サトシ
第3著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
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講演者
発表日時 2019-11-07 14:10:00 
発表時間 60 
申込先研究会 SDM 
資料番号 IEICE-SDM2019-71 
巻番号(vol) IEICE-119 
号番号(no) no.273 
ページ範囲 pp.11-16 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-SDM-2019-10-31 


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