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講演抄録/キーワード
講演名 2019-10-24 15:40
高SN比CMOS吸光イメージセンサによる半導体プロセスチャンバー内ガス濃度分布計測
髙橋圭吾Yhang Ricardo Sipauba Carvalho da Silva黒田理人藤原康行村田真麻石井秀和森本達郎諏訪智之寺本章伸須川成利東北大SDM2019-66
抄録 (和) 70 dB超の信号対雑音比(SN比)と紫外波長帯域において高感度・高耐光性を有する横型オーバーフロー蓄積トレンチ容量(LOFITreC) CMOS吸光イメージセンサを用いたガス濃度イメージングについて報告する.本センサと405 nmのLEDを用いて半導体プロセスチャンバー内に流れるNO2ガス濃度の二次元吸光イメージングを行った.その結果 NO2ガスの良好な検量線の取得とチャンバー内を流れるNO2ガスの濃度分布の撮像に成功した. 
(英) This paper reports on gas concentration imaging using lateral overflow integration trench capacitor(LOFITreC) CMOS absorption image sensor with signal-to-noise ratio (SNR) over 70 dB and high light resistance in the ultraviolet wavelength band. Two-dimensional absorption imaging of the concentration of NO2 gas flowing in a semiconductor process chamber was experimented using the developed sensor and a 405 nm LED light source. As a result, a good calibration curve of NO2 gas was obtained, and the concentration distribution of NO2 gas flowing in a process chamber was visualized.
キーワード (和) 分光イメージング / 濃度センサ / 吸光分析 / CMOSイメージセンサ / / / /  
(英) Spectral imaging / Concentration sensor / Absorption spectrometry / CMOS image sensor / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 119, no. 239, SDM2019-66, pp. 65-68, 2019年10月.
資料番号 SDM2019-66 
発行日 2019-10-16 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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PDFダウンロード SDM2019-66

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2019-10-23 - 2019-10-24 
開催地(和) 東北大学未来情報産業研究館5F 
開催地(英) Niche, Tohoku Univ. 
テーマ(和) プロセス科学と新プロセス技術 
テーマ(英) Process Science and New Process Technology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2019-10-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高SN比CMOS吸光イメージセンサによる半導体プロセスチャンバー内ガス濃度分布計測 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Gas concentration distribution measurement in semiconductor process chamber using a high SNR CMOS absorption image sensor 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 分光イメージング / Spectral imaging  
キーワード(2)(和/英) 濃度センサ / Concentration sensor  
キーワード(3)(和/英) 吸光分析 / Absorption spectrometry  
キーワード(4)(和/英) CMOSイメージセンサ / CMOS image sensor  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 髙橋 圭吾 / Keigo Takahashi / タカハシ ケイゴ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) Yhang Ricardo Sipauba Carvalho da Silva / Yhang Ricardo Sipauba Carvalho da Silva /
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 黒田 理人 / Rihito Kuroda / クロダ リヒト
第3著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤原 康行 / Yasuyuki Fujihara / フジハラ ヤスユキ
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 村田 真麻 / Maasa Murata / ムラタ マアサ
第5著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 石井 秀和 / Hidekazu Ishii / イシイ ヒデカズ
第6著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 森本 達郎 / Tatsuo Morimoto / モリモト タツオ
第7著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 諏訪 智之 / Tomoyuki Suwa / スワ トモユキ
第8著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 寺本 章伸 / Akinobu Teramoto / テラモト アキノブ
第9著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 須川 成利 / Shigetoshi Sugawa / スガワ シゲトシ
第10著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
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講演者
発表日時 2019-10-24 15:40:00 
発表時間 30 
申込先研究会 SDM 
資料番号 IEICE-SDM2019-66 
巻番号(vol) IEICE-119 
号番号(no) no.239 
ページ範囲 pp.65-68 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-SDM-2019-10-16 


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