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講演抄録/キーワード
講演名
2019-10-24 10:20
[依頼講演]Co/Si界面の酸化物層がショットキー障壁高さと接触抵抗に及ぼす影響
○
城戸光一
・
佐藤 謙
・
黒田理人
・
安藤大輔
・
須藤祐司
・
小池淳一
(
東北大
)
SDM2019-60
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2019-60
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 119, no. 239, SDM2019-60, pp. 35-38, 2019年10月.
資料番号
SDM2019-60
発行日
2019-10-16 (SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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SDM2019-60
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SDM2019-60
研究会情報
研究会
SDM
開催期間
2019-10-23 - 2019-10-24
開催地(和)
東北大学未来情報産業研究館5F
開催地(英)
Niche, Tohoku Univ.
テーマ(和)
プロセス科学と新プロセス技術
テーマ(英)
Process Science and New Process Technology
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2019-10-SDM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
Co/Si界面の酸化物層がショットキー障壁高さと接触抵抗に及ぼす影響
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Effect of an oxide layer at Co/Si interface on Schottky barrier height and contact resistivity
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
城戸 光一
/
Koichi Kido
/
キド コウイチ
第1著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
佐藤 謙
/
Ken Sato
/
サトウ ケン
第2著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
黒田 理人
/
Rihito Kuroda
/
クロダ リヒト
第3著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
安藤 大輔
/
Daisuke Ando
/
アンドウ ダイスケ
第4著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
須藤 祐司
/
Yuji Suto
/
ストウ ユウジ
第5著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
小池 淳一
/
Junichi Koike
/
コイケ ジュンイチ
第6著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
(略称: )
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
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(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2019-10-24 10:20:00
発表時間
30分
申込先研究会
SDM
資料番号
SDM2019-60
巻番号(vol)
vol.119
号番号(no)
no.239
ページ範囲
pp.35-38
ページ数
4
発行日
2019-10-16 (SDM)
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