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講演抄録/キーワード
講演名 2019-10-18 15:30
光トポロジーを利用したSi基板上における光渦スプリッタに関する研究
岡田 祥雨宮智宏齋藤孝一各務 響田中真琴西山伸彦東工大)・胡 暁物質・材料研究機構OCS2019-49 OPE2019-87 LQE2019-65
抄録 (和) 従来のシリコンフォトニクス光回路に集積可能な光渦スプリッタの提案を行う. 素子は, 蜂の巣格子状に配置された C6 対称 Si/SiO2 ナノホールを有する数種類のトポロジカルエッジ伝送路から構成されており, 素子 内のフォトニック構造を任意に設定することで, 回路内に伝搬している光渦の分岐比を連続的に変化させることが 可能となる. 3 次元時間領域差分法(FDTD 法)により伝搬特性を解析した結果, 任意なフォトニック構造のバンド ダイアグラムを自明な系からトポロジカルな系へ徐々に移行させることで 2 つの出力ポートの光渦の分岐比を 10%から 90%の範囲で制御できることを確認した. この際, 入射光渦と各ポートに分岐した出射光渦の状態はモー ド状態・回転方向ともに完全に一致しており, 光回路内において光渦の状態を維持したまま, 連続的な分岐比を制御可能であることが示された. 
(英) We propose an optical vortex splitter that can be integrated into a conventional silicon photonics optical circuit. The device consists of several topological edge transmission lines with C6 symmetric Si / SiO2 nanoholes arranged in a honeycomb lattice. By arbitrarily setting the photonic structure of the optical fiber, it becomes possible to continuously change the branching ratio of the optical vortex propagating in the circuit. Propagation characteristics can be determined by the three-dimensional time domain difference method (FDTD method). As a result of analysis, the band diagram of an arbitrary photonic structure was gradually shifted from a trivial system to a topological system, and the splitter ratio of optical vortices at two output ports was controlled within the range of 10% to 90%. At this time, the state of the incident light vortex and the state of the outgoing light vortex branched to each port are completely the same in both the mode state and the rotation direction, and the state of the optical vortex is maintained in the optical circuit. It was shown that the continuous splittinng ratio can be controlled.
キーワード (和) トポロジカルフォトニクス / 光渦 / シリコンフォトニクス / スプリッタ / / / /  
(英) Topological photonics / Optical vortex / Silicon photonics / Splitter / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 119, no. 230, OPE2019-87, pp. 113-118, 2019年10月.
資料番号 OPE2019-87 
発行日 2019-10-10 (OCS, OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
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技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OCS2019-49 OPE2019-87 LQE2019-65

研究会情報
研究会 OCS LQE OPE  
開催期間 2019-10-17 - 2019-10-18 
開催地(和) サンプラザ天文館(鹿児島) 
開催地(英)  
テーマ(和) 超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2019-10-OCS-LQE-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 光トポロジーを利用したSi基板上における光渦スプリッタに関する研究 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Study on optical vortex splitter on Si substrate using optical topology 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) トポロジカルフォトニクス / Topological photonics  
キーワード(2)(和/英) 光渦 / Optical vortex  
キーワード(3)(和/英) シリコンフォトニクス / Silicon photonics  
キーワード(4)(和/英) スプリッタ / Splitter  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 岡田 祥 / Sho Okada / オカダ ショウ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 雨宮 智宏 / Tomohiro Amemiya / アメミヤ トモヒロ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 齋藤 孝一 / Koichi Saito / サイトウ コウイチ
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 各務 響 / Hibiki Kagami / カガミ ヒビキ
第4著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 真琴 / Makoto Tanaka / タナカ マコト
第5著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 西山 伸彦 / Nobuhiko Nishiyama / ニシヤマ ノブヒコ
第6著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 胡 暁 / Xiao Hu / フ シォー
第7著者 所属(和/英) 物質・材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Insititute for Materials Science (略称: NIMS)
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講演者
発表日時 2019-10-18 15:30:00 
発表時間 25 
申込先研究会 OPE 
資料番号 IEICE-OCS2019-49,IEICE-OPE2019-87,IEICE-LQE2019-65 
巻番号(vol) IEICE-119 
号番号(no) no.229(OCS), no.230(OPE), no.231(LQE) 
ページ範囲 pp.113-118 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-OCS-2019-10-10,IEICE-OPE-2019-10-10,IEICE-LQE-2019-10-10 


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