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講演抄録/キーワード
講演名 2019-10-17 15:00
1.3 µm帯多波長レーザに向けた構造および作製方法の違いによるSiN導波路の特性分析
横村優太御手洗拓矢雨宮智宏西山伸彦東工大OCS2019-35 OPE2019-73 LQE2019-51
抄録 (和) 温調制御の必要性と波長間隔の制限を受けてしまう従来のWDMシステムの問題点を克服するために、グリッドフリーな新しいWDMシステムが提案されている。新システムでは波長間隔の等しい多波長レーザが要求されるため、今回、 SiN導波路を用いた1.3 μm帯多波長レーザ作製に向け、成膜 条件変化によるSiNの屈折率分析と、導波路構造による波長分散 および伝搬モード の変化について検討した。屈折率分析では条件を変えることによって1.3 μm帯において0.05程の変化が得られた 。波長分散および伝搬モードの計算では、 成膜 条件による分散シフトを確認し、導波路断面積0.54 μm2においてゼロ波長分散近傍の値を確認した。 
(英) A new grid-free WDM system has been proposed in order to overcome the problems of conventional WDM systems that are subject to the necessity of temperature control and the limitation of wavelength spacing. Since the new system requires multi-wavelength lasers with the same wavelength spacing, this time, for the preparation of 1.3 μm band multi-wavelength lasers using SiN waveguides, the refractive index analysis of SiN by changing the film formation conditions and the changes of chromatic dispersion and propagation mode by changing waveguide structure were investigated. In the refractive index analysis, a change of about 0.05 was obtained in the 1.3 μm band by changing the conditions. In the calculation of chromatic dispersion and propagation mode, we confirmed the dispersion shift due to the film forming conditions, and confirmed the value near zero chromatic dispersion at the waveguide cross-sectional area of 0.54 μm2.
キーワード (和) 窒化ケイ素 / 導波路 / 波長分散 / 伝搬モード / PECVD / / /  
(英) Silicon nitride / Waveguide / Chromatic dispersion / Propagation mode / PECVD / / /  
文献情報 信学技報, vol. 119, no. 229, OCS2019-35, pp. 45-48, 2019年10月.
資料番号 OCS2019-35 
発行日 2019-10-10 (OCS, OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
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PDFダウンロード OCS2019-35 OPE2019-73 LQE2019-51

研究会情報
研究会 OCS LQE OPE  
開催期間 2019-10-17 - 2019-10-18 
開催地(和) サンプラザ天文館(鹿児島) 
開催地(英)  
テーマ(和) 超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OCS 
会議コード 2019-10-OCS-LQE-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 1.3 µm帯多波長レーザに向けた構造および作製方法の違いによるSiN導波路の特性分析 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Characteristic analysis of SiN waveguides with different structures and fabrication methods for 1.3 μm multi-wavelength lasers 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 窒化ケイ素 / Silicon nitride  
キーワード(2)(和/英) 導波路 / Waveguide  
キーワード(3)(和/英) 波長分散 / Chromatic dispersion  
キーワード(4)(和/英) 伝搬モード / Propagation mode  
キーワード(5)(和/英) PECVD / PECVD  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 横村 優太 / Yuta Yokomura / ヨコムラ ユウタ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute Technology (略称: Tokyotech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 御手洗 拓矢 / Takuya Mitarai / ミタライ タクヤ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute Technology (略称: Tokyotech)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 雨宮 智宏 / Tomohiro Amemiya / アメミヤ トモヒロ
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute Technology (略称: Tokyotech)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 西山 伸彦 / Nobuhiko Nishiyama / ニシヤマ ノブヒコ
第4著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute Technology (略称: Tokyotech)
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講演者
発表日時 2019-10-17 15:00:00 
発表時間 25 
申込先研究会 OCS 
資料番号 IEICE-OCS2019-35,IEICE-OPE2019-73,IEICE-LQE2019-51 
巻番号(vol) IEICE-119 
号番号(no) no.229(OCS), no.230(OPE), no.231(LQE) 
ページ範囲 pp.45-48 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-OCS-2019-10-10,IEICE-OPE-2019-10-10,IEICE-LQE-2019-10-10 


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