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講演抄録/キーワード
講演名 2019-10-17 10:25
Significant Propagation Loss Reduction on Silicon High-Mesa Waveguides Using Thermal Oxidation Technique
Yu HanWenying LiHaisong JiangKiichi HamamotoKyushu Univ.OCS2019-29 OPE2019-67 LQE2019-45
抄録 (和) (事前公開アブストラクト) We have exploited thermal oxidation technique to silicon high-mesa waveguides for sensing-application. Significant propagation loss reduction from 1.45 to 0.84 dB/cm at a waveguide width of 500 nm has been achieved by the technique successfully. 
(英) (Advance abstract in Japanese is available)
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文献情報 信学技報, vol. 119, no. 231, LQE2019-45, pp. 11-14, 2019年10月.
資料番号 LQE2019-45 
発行日 2019-10-10 (OCS, OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OCS2019-29 OPE2019-67 LQE2019-45

研究会情報
研究会 OCS LQE OPE  
開催期間 2019-10-17 - 2019-10-18 
開催地(和) サンプラザ天文館(鹿児島) 
開催地(英)  
テーマ(和) 超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 LQE 
会議コード 2019-10-OCS-LQE-OPE 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Significant Propagation Loss Reduction on Silicon High-Mesa Waveguides Using Thermal Oxidation Technique 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 韓 瑜 / Yu Han / ハン ユ
第1著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) Wenying Li / Wenying Li /
第2著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) Haisong Jiang / Haisong Jiang /
第3著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) Kiichi Hamamoto / Kiichi Hamamoto /
第4著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
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講演者
発表日時 2019-10-17 10:25:00 
発表時間 25 
申込先研究会 LQE 
資料番号 IEICE-OCS2019-29,IEICE-OPE2019-67,IEICE-LQE2019-45 
巻番号(vol) IEICE-119 
号番号(no) no.229(OCS), no.230(OPE), no.231(LQE) 
ページ範囲 pp.11-14 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-OCS-2019-10-10,IEICE-OPE-2019-10-10,IEICE-LQE-2019-10-10 


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