講演抄録/キーワード |
講演名 |
2019-08-26 13:55
反応性スパッタ法によって得られたZrN膜上のCu(111)高配向化 ○佐藤 勝・武山真弓(北見工大) CPM2019-38 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2019-38 |
抄録 |
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キーワード |
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文献情報 |
信学技報, vol. 119, no. 181, CPM2019-38, pp. 5-7, 2019年8月. |
資料番号 |
CPM2019-38 |
発行日 |
2019-08-19 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
CPM2019-38 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2019-38 |
研究会情報 |
研究会 |
CPM |
開催期間 |
2019-08-26 - 2019-08-26 |
開催地(和) |
北見工業大学 1号館2F A-207講義室 |
開催地(英) |
Kitami Institute of Technology |
テーマ(和) |
電子部品・材料、一般 |
テーマ(英) |
Component Parts and Materials, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2019-08-CPM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
反応性スパッタ法によって得られたZrN膜上のCu(111)高配向化 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Preferentially oriented Cu(111) on ZrN film obtained by reactive sputtering |
サブタイトル(英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
佐藤 勝 / Masaru Sato / サトウ マサル |
第1著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. of Tech) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama / タケヤマ マユミ |
第2著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. of Tech) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2019-08-26 13:55:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
CPM2019-38 |
巻番号(vol) |
vol.119 |
号番号(no) |
no.181 |
ページ範囲 |
pp.5-7 |
ページ数 |
3 |
発行日 |
2019-08-19 (CPM) |
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