講演抄録/キーワード |
講演名 |
2019-08-26 14:20
スパッタ法によるAZO膜堆積のための導電性酸化物焼結ターゲットの作製 ○清水英彦・岩野春男・川上貴浩・福嶋康夫・永田向太郎(新潟大) CPM2019-39 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2019-39 |
抄録 |
(和) |
本検討では,1500℃及び1600℃にて焼結させたZnOに2wt.%のAl2O3を添加した導電性を有するAZO焼結体を作製するとともに,それをターゲットに用い,DC放電によるマグネトロンスパッタ法により,AZO膜の作製を行った。その結果,可視光領域において,80%以上の透過率を有する膜を得ることができた。また,焼結温度1600℃のターゲットを用いて,基板温度200℃にて膜堆積を行うと,約8×10-4 Ω・cmの膜を得ることができることものの,7×10-4 Ω・cmより小さい抵抗率のAZO薄膜を得ることができなかった。 |
(英) |
In this study, AZO conductive oxide sintered bodies with 2wt.% Al2O3 added to ZnO were prepared at sintering temperature of 1500 ℃ and 1600 ℃. And deposition of AZO films was attempted by the conventional DC-magnetron sputtering method using these sintered bodies as targets. As a result, all of deposited films had a transmittance more than 80% with visible light region. The film deposited at a substrate temperature of 200℃ using a target with a sintering temperature of 1600℃ had about 8×10-4 Ω・cm. But, an AZO film with a resistivity less than 7×10-4 Ω・cm was not obtained in this study. |
キーワード |
(和) |
AZO / 焼結体 / 薄膜 / マグネトロンスパッタ法 / / / / |
(英) |
AZO / Sintered body / Thin film / Magnetron sputtering / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 119, no. 181, CPM2019-39, pp. 9-12, 2019年8月. |
資料番号 |
CPM2019-39 |
発行日 |
2019-08-19 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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