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講演抄録/キーワード
講演名 2019-01-18 13:30
CIP法における異なる格子間の電磁界接続に関する一検討
谷口宣明大西崚平呉 迪日大)・山口隆志都立産技研センター)・大貫進一郎日大
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抄録 (和) CIP(Constrained Interpolatoin Profile)法は,電磁界解析において数値誤差の少ない計算手法として期待されている.異なる格子間で界を接続する際,物理量の存在する格子位置,及び微分値の有無が異なるため,それらを考慮する必要がある.本報告では,ある格子上の物理量を同一格子上に移動し,更に微分値を物理量から算出した影響と,それによる数値誤差を検証する. 
(英) The CIP (Constrained Interpolation Profile) method is an expected computational method with less numerical error in electromagnetic field analysis. At the boundaries between different lattices, physical quantities and their derivatives are usually different. In this report, we examine the effect of interpolating the physical quantity to the same lattice, calculating the derivative, and their numerical errors.
キーワード (和) CIP法 / 電磁界解析 / 移流方程式 / レギュラー格子 / スタッガード格子 / / /  
(英) CIP Method / Electromagnetic Field Analysis / Advection Equation / Regular grid / Staggered grid / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 400, EST2018-119, pp. 225-228, 2019年1月.
資料番号 EST2018-119 
発行日 2019-01-10 (PN, EMT, OPE, LQE, EST, MWP) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 PN EMT OPE EST MWP LQE IEE-EMT  
開催期間 2019-01-17 - 2019-01-18 
開催地(和) 大阪大学中之島センター 
開催地(英) Osaka University Nakanoshima Center 
テーマ(和) フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバーとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、マイクロ波・ミリ波フォトニクス、及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EST 
会議コード 2019-01-PN-EMT-OPE-EST-MWP-LQE-EMT 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) CIP法における異なる格子間の電磁界接続に関する一検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Numerical Continuity of EM Fields at Different Lattice Boundaries in the CIP Method 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) CIP法 / CIP Method  
キーワード(2)(和/英) 電磁界解析 / Electromagnetic Field Analysis  
キーワード(3)(和/英) 移流方程式 / Advection Equation  
キーワード(4)(和/英) レギュラー格子 / Regular grid  
キーワード(5)(和/英) スタッガード格子 / Staggered grid  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 谷口 宣明 / Nobuaki Taniguchi / タニグチ ノブアキ
第1著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 大西 崚平 / Ryohei Ohnishi / オオニシ リョウヘイ
第2著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 呉 迪 / Wu Di / ゴ テキ
第3著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 山口 隆志 / Takashi Yamaguchi / ヤマグチ タカシ
第4著者 所属(和/英) (地独)東京都立産業技術研究センター (略称: 都立産技研センター)
Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute (略称: TIRI)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 大貫 進一郎 / Shinichiro Ohnuki / オオヌキ シンイチロウ
第5著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
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講演者
発表日時 2019-01-18 13:30:00 
発表時間 25 
申込先研究会 EST 
資料番号 IEICE-PN2018-72,IEICE-EMT2018-106,IEICE-OPE2018-181,IEICE-LQE2018-191,IEICE-EST2018-119,IEICE-MWP2018-90 
巻番号(vol) IEICE-118 
号番号(no) no.396(PN), no.397(EMT), no.398(OPE), no.399(LQE), no.400(EST), no.401(MWP) 
ページ範囲 pp.225-228 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-PN-2019-01-10,IEICE-EMT-2019-01-10,IEICE-OPE-2019-01-10,IEICE-LQE-2019-01-10,IEICE-EST-2019-01-10,IEICE-MWP-2019-01-10 


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