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講演抄録/キーワード
講演名 2019-01-17 11:40
フォトニック結晶CirDレーザに向けた深掘ドライエッチングに関する研究
曽 理溝口 舜張 秀宇竹内健斗梶井博武森藤正人丸田章博近藤正彦阪大
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抄録 (和) 本研究では円形共振器(CirD)フォトニック結晶レーザを作製するために,レジストマスクを用いてInAs量子ドットを含むGaAs/AlGaAsエピタキシャル多層膜の深掘ドライエッチングを検討した. エッチングは,Cl2,BCl3およびCH4の混合ガスを用いた誘導結合型プラズマ反応性イオンエッチングによって行った.深い空孔を作製するためにエッチング時間を長くすると,レジストマスクが完全にエッチングされ,表面が損傷した.2回のスピンコートによってエピタキシャル多層膜上にレジスト層を積み重ねて厚膜化することで,表面が損傷することなく深さ1.5μmの空孔の作製が可能になることが分かった. 
(英) In order to fabricate a photonic crystal laser with circular defect (CirD) resonator, we study deep dry etching of GaAs /AlGaAs epitaxial multilayers including InAs quantum dots using a resist mask. The etching is performed by inductively coupled plasma reactive ion etching using a mixture of Cl2,BCl3 and CH4 gases. When etching time is increased to fabricate deep air holes, the resist mask is completely etched and the surface is damaged. Therefore, we stack the resist layers on epi-wafer by twice spin-coating and enable deeper dry etching without damage. As a result, fabrication of air holes with a depth of 1.5μm becomes possible.
キーワード (和) フォトニック結晶 / ドライエッチング / InAs量子ドット / GaAs / AlGaAs / / /  
(英) Photonic crystal / Dry etching / InAs quantum dot / GaAs / AlGaAs / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 399, LQE2018-154, pp. 23-26, 2019年1月.
資料番号 LQE2018-154 
発行日 2019-01-10 (PN, EMT, OPE, LQE, EST, MWP) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 PN EMT OPE EST MWP LQE IEE-EMT  
開催期間 2019-01-17 - 2019-01-18 
開催地(和) 大阪大学中之島センター 
開催地(英) Osaka University Nakanoshima Center 
テーマ(和) フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバーとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、マイクロ波・ミリ波フォトニクス、及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 LQE 
会議コード 2019-01-PN-EMT-OPE-EST-MWP-LQE-EMT 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) フォトニック結晶CirDレーザに向けた深掘ドライエッチングに関する研究 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A study of deep dry etching for Photonic Crystal CirD Laser 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) フォトニック結晶 / Photonic crystal  
キーワード(2)(和/英) ドライエッチング / Dry etching  
キーワード(3)(和/英) InAs量子ドット / InAs quantum dot  
キーワード(4)(和/英) GaAs / GaAs  
キーワード(5)(和/英) AlGaAs / AlGaAs  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 曽 理 / Li Zeng / ソウ リ
第1著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 溝口 舜 / Shun Mizoguchi / ミゾグチ シュン
第2著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 張 秀宇 / Xiuyu Zhang / チョウ シュウウ
第3著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 竹内 健斗 / Kento Takeuchi / タケウチ ケント
第4著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 梶井 博武 / Hirotake Kajii / カジイ ヒロタケ
第5著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 森藤 正人 / Masato Morifuji / モリフジ マサト
第6著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 丸田 章博 / Akihiro Maruta / マルタ アキヒロ
第7著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 近藤 正彦 / Masahiko Kondow / コンドウ マサヒコ
第8著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
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講演者
発表日時 2019-01-17 11:40:00 
発表時間 25 
申込先研究会 LQE 
資料番号 IEICE-PN2018-35,IEICE-EMT2018-69,IEICE-OPE2018-144,IEICE-LQE2018-154,IEICE-EST2018-82,IEICE-MWP2018-53 
巻番号(vol) IEICE-118 
号番号(no) no.396(PN), no.397(EMT), no.398(OPE), no.399(LQE), no.400(EST), no.401(MWP) 
ページ範囲 pp.23-26 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-PN-2019-01-10,IEICE-EMT-2019-01-10,IEICE-OPE-2019-01-10,IEICE-LQE-2019-01-10,IEICE-EST-2019-01-10,IEICE-MWP-2019-01-10 


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