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講演抄録/キーワード
講演名 2018-12-25 11:45
ミストCVD法によるGTO薄膜を用いたデバイス
滝下雄太龍谷大)・是友大地曲 勇作古田 守高知工科大)・松田時宜木村 睦龍谷大)   エレソ技報アーカイブはこちら
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文献情報 信学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
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研究会情報
研究会 EID SDM ITE-IDY  
開催期間 2018-12-25 - 2018-12-25 
開催地(和) 龍谷大学 響都ホール 校友会館 
開催地(英)  
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ITE-IDY 
会議コード 2018-12-EID-SDM-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ミストCVD法によるGTO薄膜を用いたデバイス 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Device Using Thin Film of GTO by MistCVD Method 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 滝下 雄太 / Yuta Takishita / タキシタ ユウタ
第1著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 是友 大地 / Daichi Koretomo / コレトモ ダイチ
第2著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: KUT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 曲 勇作 / Yusaku Magari / マガリ ユウサク
第3著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: KUT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 古田 守 / Mamoru Furuta / フルタ マモル
第4著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: KUT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 松田 時宜 / Tokiyoshi Matsuda / マツダ トキヨシ
第5著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 睦 / Mutsumi Kimura / キムラ ムツミ
第6著者 所属(和/英) 龍谷大学 (略称: 龍谷大)
Ryukoku University (略称: Ryukoku Univ.)
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講演者
発表日時 2018-12-25 11:45:00 
発表時間 15 
申込先研究会 ITE-IDY 
資料番号  
巻番号(vol) IEICE-118 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数 IEICE- 
発行日  


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