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講演抄録/キーワード
講演名 2018-12-07 16:15
[招待講演]A 300-mm-wafer silicon photonics technology for energy-efficient and advanced information systems
Koji YamadaTsuyoshi HorikawaMakoto OkanoGuangwei CongYuriko MaegamiMorifumi OhnoNoritsugu YamamotoKeijiro SuzukiSatoshi SudaRyotaro KonoikeHiroyuki MatsuuraKazuhiro IkedaHitoshi KawashimaShu NamikiMasahiko MoriAISTOPE2018-139 LQE2018-149 SIPH2018-55 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2018-139 LQE2018-149
抄録 (和) 300mmウエハーシリコンフォトニクス技術は優れた加工精度、面内均一性、再現性を有している。この技術を用い、低環境負荷な光ネットワークの実現にむけて、小型低消費電力大規模光スイッチマや高効率光変調器などの小型でエネルギー効率の良い光デバイスが開発されつつある。また、先進的な情報処理システムの実現にむけて、超低遅延光パスゲート論理処理や光ニューラルネットワーク用非線形アクティブ関数発生などの新しい高機能光回路も実現されつつある。 
(英) State-of-the-art 300-mm-wafer-based silicon photonics technology features superior fabrication accuracy, in-wafer uniformity, and reproducibility. Using this technology, various photonic devices, such as a large-scale optical switch matrix with a very low energy consumption, high-efficiency optical modulators, are developed for energy-efficient network systems. Novel functional photonic circuits, such as those for optical path-gate logic processing and nonlinear activation functions in photonic neural network are now being developed. These photonic devices and circuits will be key elements in the energy-efficient and advanced information systems.
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) integrated photonics / silicon photonics / optical switch / optical modulator / optical path gate logic / photonic neural network / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, SIPH2018-55, pp. 209-214, 2018年12月.
資料番号 SIPH2018-55 
発行日 2018-11-29 (OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OPE2018-139 LQE2018-149 SIPH2018-55 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2018-139 LQE2018-149

研究会情報
研究会 LQE OPE SIPH  
開催期間 2018-12-06 - 2018-12-07 
開催地(和) 慶應義塾大学 
開催地(英) Keio University 
テーマ(和) Photonic Device Workshop (半導体レーザ関連技術, パッシブデバイス技術, シリコンフォトニクス) 
テーマ(英) Photonic Device Workshop 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SIPH 
会議コード 2018-12-LQE-OPE-SIPH 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A 300-mm-wafer silicon photonics technology for energy-efficient and advanced information systems 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) / integrated photonics  
キーワード(2)(和/英) / silicon photonics  
キーワード(3)(和/英) / optical switch  
キーワード(4)(和/英) / optical modulator  
キーワード(5)(和/英) / optical path gate logic  
キーワード(6)(和/英) / photonic neural network  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 山田 浩治 / Koji Yamada / ヤマダ コウジ
第1著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 堀川 剛 / Tsuyoshi Horikawa / ホリカワ ツヨシ
第2著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 岡野 誠 / Makoto Okano / オカノ マコト
第3著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) コン グアンウェイ / Guangwei Cong / コン グアンウェイ
第4著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 前神 有里子 / Yuriko Maegami / マエガミ ユリコ
第5著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 大野 守史 / Morifumi Ohno / オオノ モリフミ
第6著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 宗継 / Noritsugu Yamamoto /
第7著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 恵治郎 / Keijiro Suzuki / スズキ ケイジロウ
第8著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 須田 悟 / Satoshi Suda / スダ サトシ
第9著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 鴻池 遼太郎 / Ryotaro Konoike / コウノイケ リョウタロウ
第10著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 松浦 裕之 / Hiroyuki Matsuura / マツウラ ヒロユキ
第11著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 池田 和浩 / Kazuhiro Ikeda / イケダ カズヒロ
第12著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) 河島 整 / Hitoshi Kawashima / カワシマ ヒトシ
第13著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) 並木 周 / Shu Namiki / ナミキ シュウ
第14著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) 森 雅彦 / Masahiko Mori / モリ マサヒコ
第15著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
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講演者
発表日時 2018-12-07 16:15:00 
発表時間 30 
申込先研究会 SIPH 
資料番号 IEICE-OPE2018-139,IEICE-LQE2018-149,IEICE-SIPH2018-55 
巻番号(vol) IEICE-118 
号番号(no) no.348(OPE), no.349(LQE) 
ページ範囲 pp.209-214 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-OPE-2018-11-29,IEICE-LQE-2018-11-29 


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