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講演抄録/キーワード
講演名
2018-12-06 17:10
シリコン基板上への磁性ガーネット薄膜の選択的形成
○
飯島夏来
・
山口 鷹
・
武田正行
・
西澤武志
・
中津原克己
(
神奈川工科大
)・
野毛 悟
(
沼津高専
)・
庄司雄哉
・
水本哲弥
(
東工大
)
OPE2018-126 LQE2018-136 SIPH2018-42
エレソ技報アーカイブへのリンク:
OPE2018-126
LQE2018-136
抄録
(和)
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キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 118, no. 348, OPE2018-126, pp. 143-148, 2018年12月.
資料番号
OPE2018-126
発行日
2018-11-29 (OPE, LQE)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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LQE2018-136
研究会情報
研究会
LQE OPE SIPH
開催期間
2018-12-06 - 2018-12-07
開催地(和)
慶應義塾大学
開催地(英)
Keio University
テーマ(和)
Photonic Device Workshop (半導体レーザ関連技術, パッシブデバイス技術, シリコンフォトニクス)
テーマ(英)
Photonic Device Workshop
講演論文情報の詳細
申込み研究会
OPE
会議コード
2018-12-LQE-OPE-SIPH
本文の言語
日本語
タイトル(和)
シリコン基板上への磁性ガーネット薄膜の選択的形成
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Selective formation of magnetic garnet thin films on silicon substrates
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
/
キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
/
キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
/
キーワード(6)(和/英)
/
キーワード(7)(和/英)
/
キーワード(8)(和/英)
/
第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
飯島 夏来
/
Natsuki Iijima
/
イイジマ ナツキ
第1著者 所属(和/英)
神奈川工科大学
(略称:
神奈川工科大
)
Kanagawa Institute of Technology
(略称:
KAIT
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
山口 鷹
/
Taka Yamaguchi
/
ヤマグチ タカ
第2著者 所属(和/英)
神奈川工科大学
(略称:
神奈川工科大
)
Kanagawa Institute of Technology
(略称:
KAIT
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
武田 正行
/
Masayuki Takeda
/
タケダ マサユキ
第3著者 所属(和/英)
神奈川工科大学
(略称:
神奈川工科大
)
Kanagawa Institute of Technology
(略称:
KAIT
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
西澤 武志
/
Takeshi Nishizawa
/
ニシザワ タケシ
第4著者 所属(和/英)
神奈川工科大学
(略称:
神奈川工科大
)
Kanagawa Institute of Technology
(略称:
KAIT
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
中津原 克己
/
Katsumi Nakatsuhara
/
ナカツハラ カツミ
第5著者 所属(和/英)
神奈川工科大学
(略称:
神奈川工科大
)
Kanagawa Institute of Technology
(略称:
KAIT
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
野毛 悟
/
Satoru Noge
/
ノゲ サトル
第6著者 所属(和/英)
沼津工業高等専門学校
(略称:
沼津高専
)
National Institute of Technology, Numazu College
(略称:
Numazu NCT
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
庄司 雄哉
/
Yuya Shoji
/
ショウジ ユウヤ
第7著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
水本 哲弥
/
Tetsuya Mizumoto
/
ミズモト テツヤ
第8著者 所属(和/英)
東京工業大学
(略称:
東工大
)
Tokyo Institute of Technology
(略称:
Tokyo Tech
)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第19著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
1
発表日時
2018-12-06 17:10:00
発表時間
80
申込先研究会
OPE
資料番号
IEICE-OPE2018-126,IEICE-LQE2018-136,IEICE-SIPH2018-42
巻番号(vol)
IEICE-118
号番号(no)
no.348(OPE), no.349(LQE)
ページ範囲
pp.143-148
ページ数
IEICE-6
発行日
IEICE-OPE-2018-11-29,IEICE-LQE-2018-11-29
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