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講演抄録/キーワード
講演名 2018-11-28 13:30
単元真空蒸着法による鉛ハライドペロブスカイト薄膜の成膜と評価
田中仙君上山夏樹坂戸雅智近畿大OME2018-27 エレソ技報アーカイブへのリンク:OME2018-27
抄録 (和) 有機無機ハイブリッド半導体の一つである鉛ハライドペロブスカイト材料が新しいオプトエレクトロニクス材料として注目されている.本稿では、ペロブスカイト薄膜の成膜方法の一つである真空蒸着による作製手法について報告する.特に、ペロブスカイト結晶を用いて一つの蒸着源のみを使用して成膜する単元蒸着法について得られた知見を紹介する.単元蒸着では、蒸着源加熱時に有機基とハロゲン化鉛とに分解して気化したのち,基板表面における再反応によってペロブスカイトが成膜されるため,蒸着条件によって形成される薄膜の性質が大きく変化する.また,異なる種類のペロブスカイトを積層させた場合に見られる混晶化についても述べる. 
(英) Organic-inorganic lead halide perovskite materials have much attention as new optoelectronic materials. In this paper, we report a fabrication method of perovskite thin film by using vacuum deposition. We have studied a unique deposition method which uses perovskite crystals as a single evaporation source. In the single source vacuum deposition, a decomposition of the perovskite crystals into the organic and inorganic components and a reorganization into the organic-inorganic hybrid on the substrate occur during the deposition process. Hence the properties of the thin film change dramatically by the vapor deposition conditions. We also demonstrate a mixed crystal formation which occurs at a heterointerface of perovskites.
キーワード (和) 鉛ハライドペロブスカイト / 真空蒸着 / 薄膜作製 / 単元蒸着 / / / /  
(英) Lead halide perovskite / Vacuum deposition / Thin film / Single evaporation source / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 327, OME2018-27, pp. 5-7, 2018年11月.
資料番号 OME2018-27 
発行日 2018-11-21 (OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OME2018-27 エレソ技報アーカイブへのリンク:OME2018-27

研究会情報
研究会 OME  
開催期間 2018-11-28 - 2018-11-28 
開催地(和) じばさんビル502室(姫路) 
開催地(英) JIBASAN Bidg. 
テーマ(和) 有機デバイス,センサー,一般 
テーマ(英) Organic Devices, Sensors, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OME 
会議コード 2018-11-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 単元真空蒸着法による鉛ハライドペロブスカイト薄膜の成膜と評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Thin film fabrication of lead halide perovskite using a single source vacuum deposition 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 鉛ハライドペロブスカイト / Lead halide perovskite  
キーワード(2)(和/英) 真空蒸着 / Vacuum deposition  
キーワード(3)(和/英) 薄膜作製 / Thin film  
キーワード(4)(和/英) 単元蒸着 / Single evaporation source  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 仙君 / Senku Tanaka / タナカ センク
第1著者 所属(和/英) 近畿大学 (略称: 近畿大)
Kindai University (略称: Kindai Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 上山 夏樹 / Natsuki Ueyama / ウエヤマ ナツキ
第2著者 所属(和/英) 近畿大学 (略称: 近畿大)
Kindai University (略称: Kindai Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 坂戸 雅智 / Masatoshi Sakato / サカト マサトシ
第3著者 所属(和/英) 近畿大学 (略称: 近畿大)
Kindai University (略称: Kindai Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-11-28 13:30:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 OME 
資料番号 OME2018-27 
巻番号(vol) vol.118 
号番号(no) no.327 
ページ範囲 pp.5-7 
ページ数
発行日 2018-11-21 (OME) 


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