| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2018-11-02 15:20 石英ガラス管全面へのc軸平行配向ZnO薄膜の成膜 ○篁 佑太（同志社大）・高柳真司（名工大）・松川真美（同志社大）・柳谷隆彦（早大）  US2018-68 |
|
| 抄録 | （和） | 弾性波の一つであるSH型SAWは，液体へのエネルギー漏洩が少なく，液体の粘度や導電率，誘電率を測定可能である．一方，高感度な弾性波センサを実現する手法として音波の多重周回がある．我々は，石英ガラス管側面の一部にスパッタ法を用いてc軸平行配向ZnO薄膜を成膜することで, SH型バルク波の周回に成功した．しかし，SH型SAWを周回させるためには，石英ガラス管側面全体にZnO薄膜を成膜する必要がある．そこで本研究では，石英ガラス管基板の側面全体に均一なZnO薄膜を形成することを目的として，基板を回転させながらc軸平行配向ZnO薄膜の成膜を試みた．その結果，低い放電電力および低速での基板回転により，石英ガラス管基板の側面全体に均一なc軸平行配向ZnO薄膜が形成された．これらの結果から成膜速度を詳細に検討することで，結晶配向性の良いc軸平行配向ZnO薄膜を側面全体に形成することが期待される． |
| （英） | SH type SAW sensor can measure the viscosity, conductivity and permittivity of a liquid because it propagate to liquid / solid interface with the small leakage to liquid. One approach for highly sensitive sensor is multiple roundtrips of acoustic wave. We succeeded in observation of multiple roundtrips of SH type bulk wave using c-axis parallel oriented ZnO film on a part of the silica glass pipe. However, SH type SAW roundtrips were not observed because the ZnO film was not grown on the entire surface of the pipe. In this study, we demonstrated the pipe-surface deposition of the c-axis parallel oriented ZnO film by a substrate rotation system for the uniform film growth on the entire pipe surface. As a result, a uniform c-axis parallel oriented ZnO film on the entire surface of the silica glass pipe was obtained by decreasing the sputtering power and the substrate rotation speed. | |
| キーワード | （和） | c軸平行配向ZnO薄膜 / 円管基板 / スパッタ成膜 / SH波 / / / / |
| （英） | c-Axis parallel oriented ZnO film / Pipe substrate / Sputtering deposition / SH wave / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 118, no. 277, US2018-68, pp. 25-30, 2018年11月. | |
| 資料番号 | US2018-68 | |
| 発行日 | 2018-10-26 (US) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | US2018-68 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | US |
| 開催期間 | 2018-11-02 - 2018-11-02 |
| 開催地（和） | 愛知工業大学 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | US |
| 会議コード | 2018-11-US |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 石英ガラス管全面へのc軸平行配向ZnO薄膜の成膜 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Deposition of c-axis parallel oriented ZnO film on entire surface of silica glass pipe |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | c軸平行配向ZnO薄膜 / c-Axis parallel oriented ZnO film |
| キーワード(2)（和/英） | 円管基板 / Pipe substrate |
| キーワード(3)（和/英） | スパッタ成膜 / Sputtering deposition |
| キーワード(4)（和/英） | SH波 / SH wave |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 篁 佑太 / Yuta Takamura / タカムラ ユウタ |
| 第1著者 所属（和/英） | 同志社大学 (略称： 同志社大) Doshisha University (略称： Doshisha Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高柳 真司 / Shinji Takayanagi / タカヤナギ シンジ |
| 第2著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学 (略称： 名工大) Nagoya Institute of Technology (略称： Nagoya Inst. Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松川 真美 / Mami Matsukawa / マツカワ マミ |
| 第3著者 所属（和/英） | 同志社大学 (略称： 同志社大) Doshisha University (略称： Doshisha Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 柳谷 隆彦 / Takahiko Yanagitani / ヤナギタニ タカヒコ |
| 第4著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第5著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第6著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第7著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第8著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第9著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第10著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第11著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第12著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第13著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第14著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第15著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2018-11-02 15:20:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | US |
| 資料番号 | US2018-68 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | no.277 |
| ページ範囲 | pp.25-30 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2018-10-26 (US) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]