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講演抄録/キーワード
講演名 2018-10-04 11:15
基板付き薄膜共振子からの新規kt2評価法と従来法の比較 ~ 共振周波数比法、変換損失法、共振スペクトル法、共振反共振法 ~
戸塚 誠柳谷隆彦早大US2018-52
抄録 (和) 圧電薄膜を用いたBAW共振子の最終的な性能を決定付けるパラメータとして電気機械結合係数がある.電気機械結合係数(kt2)の測定にはIEEE Standardより共振反共振法が推奨されているが, 薄膜自立構造(FBAR)でのみ測定可能という欠点がある.基板付き薄膜構造(HBAR)において電気機械結合係数が測定可能であればデバイス作製前に性能を把握でき歩留まり向上に寄与すると考えられる. 今回我々は基板付き薄膜構造において共振周波数比を用いた新たな電気機械結合係数測定法を見出したため, 本手法と既存手法との比較を行った.その結果, IEEE推奨の共振反共振法と本手法による電気機械結合係数の推定値の誤差は7%以内となり本手法の妥当性が示された. 
(英) The electromechanical coupling coefficient kt2 is an important parameter for determining the performances of the RF piezoelectric devices. A resonance antiresonance method is recommended for the determination of kt2 for the piezoelectric film, according to the IEEE standard. However, a self-standing film structure (FBAR) is required to use this method. It is convenient to estimate the kt2 of piezoelectric film in film/substrate structure (HBAR) before preparing piezoelectric devices. In this study, we proposed the kt2 determination method by using the ratio of a third mode resonant frequency to a fundamental mode resonant frequency in HBAR. We compared this method with conventional methods to demonstrate the validity of this method. The difference between kt2 determined by this method and one by the resonance antiresonance method is within 7%.
キーワード (和) 電気機械結合係数(kt2) / 基板付き薄膜構造(HBAR) / 圧電薄膜 / 共振周波数 / / / /  
(英) Electromechanical coupling coefficient / HBAR / Piezoelectric film / Resonant frequency / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 229, US2018-52, pp. 19-24, 2018年10月.
資料番号 US2018-52 
発行日 2018-09-27 (US) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード US2018-52

研究会情報
研究会 US  
開催期間 2018-10-04 - 2018-10-04 
開催地(和) 東北大学 
開催地(英)  
テーマ(和) 一般(共催:東北大学電気通信研究所 超音波エレクトロニクス研究会、日本超音波医学会光超音波画像研究会、レーザー学会光音響イメージング技術専門委員会) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 US 
会議コード 2018-10-US 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 基板付き薄膜共振子からの新規kt2評価法と従来法の比較 
サブタイトル(和) 共振周波数比法、変換損失法、共振スペクトル法、共振反共振法 
タイトル(英) Comparison between new kt2 extraction method and conventional methods for film/substrate structure 
サブタイトル(英) Resonant frequency ratio method, conversion loss method, resonant spectrum method, and resonance antiresonance method 
キーワード(1)(和/英) 電気機械結合係数(kt2) / Electromechanical coupling coefficient  
キーワード(2)(和/英) 基板付き薄膜構造(HBAR) / HBAR  
キーワード(3)(和/英) 圧電薄膜 / Piezoelectric film  
キーワード(4)(和/英) 共振周波数 / Resonant frequency  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 戸塚 誠 / Makoto Totsuka / トツカ マコト
第1著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda Univesity (略称: Waseda Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 柳谷 隆彦 / Takahiko Yanagitani / ヤナギタニ タカヒコ
第2著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda Univesity (略称: Waseda Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-10-04 11:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 US 
資料番号 US2018-52 
巻番号(vol) vol.118 
号番号(no) no.229 
ページ範囲 pp.19-24 
ページ数
発行日 2018-09-27 (US) 


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