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| 講演名 | 2018-10-03 14:45 高圧水蒸気熱処理による多結晶磁性ガーネット膜の吸光度低減 ○川島拓也・水戸慎一郎（東京高専）  CPM2018-39 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2018-39 |
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| 抄録 | （和） | 本研究では，スパッタリング法および結晶化熱処理(600℃～)により作製された磁性ガーネット薄膜に対し，高圧水蒸気熱処理(～300℃)を行い，その効果を検討するとともに薄膜の高性能化を試みた．高圧水蒸気熱処理を施した磁性ガーネットは未処理のものに対し，可視光域におけるファラデー回転角が僅かに減少したが，300~500nmにおける吸光度が大幅に低下し，性能指数が向上した． |
| （英） | The magnetic garnet thin film prepared by the sputtering method and the crystallization heat treatment (600 ℃ ~) was subjected to high pressure water vapor annealing (~ 300 ℃). We examined the effect and attempted to improve the performance of the thin film. Although the Faraday rotation angle in the visible light region of the magnetic garnet thin film subjected to high pressure water vapor annealing was slightly decreased compared to the untreated one, the absorbance at 300 to 500 nm was greatly reduced and the figure of merit improved. | |
| キーワード | （和） | 磁性ガーネット / 高圧水蒸気熱処理 / / / / / / |
| （英） | Magnetic garnet / High pressure water vapor annealing / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 118, no. 228, CPM2018-39, pp. 13-15, 2018年10月. | |
| 資料番号 | CPM2018-39 | |
| 発行日 | 2018-09-26 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2018-39 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2018-39 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2018-10-03 - 2018-10-03 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 電子材料・光記録技術、一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2018-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 高圧水蒸気熱処理による多結晶磁性ガーネット膜の吸光度低減 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Reduction of optical absorbance of sputtered poly-crystalline magnetic garnet films by high-pressure water vapor annealing |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 磁性ガーネット / Magnetic garnet |
| キーワード(2)（和/英） | 高圧水蒸気熱処理 / High pressure water vapor annealing |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川島 拓也 / Takuya Kawashima / カワシマ タクヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業高等専門学校 (略称： 東京高専) National Institute of Technology Tokyo College (略称： NITTC) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 水戸 慎一郎 / Shinichiro Mito / ミト シンイチロウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業高等専門学校 (略称： 東京高専) National Institute of Technology Tokyo College (略称： NITTC) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2018-10-03 14:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2018-39 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | no.228 |
| ページ範囲 | pp.13-15 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2018-09-26 (CPM) |
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