お知らせ 研究会の開催と会場に参加される皆様へのお願い(2020年10月開催~)
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2018-08-24 10:15
直接貼付InP/Si基板上GaInAsPレーザのInPテンプレート膜厚依存性
相川政輝早坂夏樹韓 旭松浦正樹Periyanayagam Gandhi Kallarasan内田和希杉山滉一矢田拓夢下村和彦上智大R2018-26 EMD2018-29 CPM2018-29 OPE2018-56 LQE2018-45 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2018-29 CPM2018-29 OPE2018-56 LQE2018-45
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) (Not available yet)
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 188, OPE2018-56, pp. 47-52, 2018年8月.
資料番号 OPE2018-56 
発行日 2018-08-16 (R, EMD, CPM, OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード R2018-26 EMD2018-29 CPM2018-29 OPE2018-56 LQE2018-45 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2018-29 CPM2018-29 OPE2018-56 LQE2018-45

研究会情報
研究会 EMD LQE OPE CPM R  
開催期間 2018-08-23 - 2018-08-24 
開催地(和) 小樽経済センター 
開催地(英) Otaru Camber of Commerce & Industry 
テーマ(和) 光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2018-08-EMD-LQE-OPE-CPM-R 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 直接貼付InP/Si基板上GaInAsPレーザのInPテンプレート膜厚依存性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) InP template layer thickness dependence of GaInAsP-InP layer grown on directly-bonded InP/Si substrate 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) /  
キーワード(2)(和/英) /  
キーワード(3)(和/英) /  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 相川 政輝 / Masaki Aikawa / アイカワ マサキ
第1著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 早坂 夏樹 / Natsuki Hayasaka / ハヤサカ ナツキ
第2著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 韓 旭 / Xu Han / カン キョク
第3著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 松浦 正樹 / Masaki Matsuura / マツウラ マサキ
第4著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) Periyanayagam Gandhi Kallarasan / Periyanayagam Gandhi Kallarasan / Periyanayagam Gandhi Kallarasan
第5著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 内田 和希 / Kazuki Uchida / ウチダ カズキ
第6著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 杉山 滉一 / Hirokazu Sugiyama / スギヤマ ヒロカズ
第7著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 矢田 拓夢 / Hiromu Yada / ヤダ ヒロム
第8著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 下村 和彦 / Kazuhiko Shimomura / シモムラ カズヒコ
第9著者 所属(和/英) 上智大学 (略称: 上智大)
Sophia University (略称: Sophia Univ.)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者
発表日時 2018-08-24 10:15:00 
発表時間 25 
申込先研究会 OPE 
資料番号 IEICE-R2018-26,IEICE-EMD2018-29,IEICE-CPM2018-29,IEICE-OPE2018-56,IEICE-LQE2018-45 
巻番号(vol) IEICE-118 
号番号(no) no.185(R), no.186(EMD), no.187(CPM), no.188(OPE), no.189(LQE) 
ページ範囲 pp.47-52 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-R-2018-08-16,IEICE-EMD-2018-08-16,IEICE-CPM-2018-08-16,IEICE-OPE-2018-08-16,IEICE-LQE-2018-08-16 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会