講演抄録/キーワード |
講演名 |
2018-08-10 10:45
ウェットプロセスによる裏面アルミナパッシベーション膜の評価 ○渡邊良祐(弘前大)・小山 翼・齋藤洋司(成蹊大) CPM2018-17 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2018-17 |
抄録 |
(和) |
シリコン太陽電池の表面パッシベーション膜として,近年アルミナが注目されている.アルミナは負の固定電荷をもつため,表面の電子を反発する電界効果パッシベーションが期待できる.我々はアルミナをゾルゲルウェットプロセスにて太陽電池の裏面に形成し,作製した太陽電池の特性評価を行った.また,シリコン太陽電池で一般的に用いられているSiO2パッシベーション膜についてもゾルゲル法にて作製し,アルミナパッシベーション膜を形成した場合との太陽電池特性の比較を行った. |
(英) |
(Not available yet) |
キーワード |
(和) |
ゾルゲル / パッシベーション膜 / シリコン太陽電池 / / / / / |
(英) |
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文献情報 |
信学技報, vol. 118, no. 179, CPM2018-17, pp. 43-46, 2018年8月. |
資料番号 |
CPM2018-17 |
発行日 |
2018-08-02 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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