電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
技報オンライン
‥‥ (ESS/通ソ/エレソ/ISS)
技報アーカイブ
‥‥ (エレソ/通ソ)
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2018-08-09 16:05
真空蒸着法によるBi媒介Geナノドットの形成機構の検討
対馬和都滝田健介中澤日出樹弘前大)・俵 毅彦舘野功太章 国強後藤秀樹NTT)・池田高之水野誠一郎NTT-AT)・岡本 浩弘前大)   エレソ技報アーカイブはこちら
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) (Not available yet)
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 179, CPM2018-12, pp. 21-24, 2018年8月.
資料番号 CPM2018-12 
発行日 2018-08-02 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2018-08-09 - 2018-08-10 
開催地(和) 弘前大学文京町地区キャンパス 
開催地(英) Hirosaki Univ. 
テーマ(和) 電子部品・材料、一般 
テーマ(英) Component Parts and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2018-08-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 真空蒸着法によるBi媒介Geナノドットの形成機構の検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Study on the formation mechanism of Bi-mediated Ge nanodots fabricated by vacuum evaporation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) /  
キーワード(2)(和/英) /  
キーワード(3)(和/英) /  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 対馬 和都 / Kazuto Tsushima / ツシマ カズト
第1著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 滝田 健介 / Kensuke Takita / タキタ ケンスケ
第2著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 中澤 日出樹 / Hideki Nakazawa / ナカザワ ヒデキ
第3著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 俵 毅彦 / Takehiko Tawara / タワラ タケヒコ
第4著者 所属(和/英) NTT物性科学基礎研究所 (略称: NTT)
NTT Basic Research Laboratories (略称: NTT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 舘野 功太 / Kouta Tateno / タテノ コウタ
第5著者 所属(和/英) NTT物性科学基礎研究所 (略称: NTT)
NTT Basic Research Laboratories (略称: NTT)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 章 国強 / Guoqiang Zhang / ザン ゴウチャン
第6著者 所属(和/英) NTT物性科学基礎研究所 (略称: NTT)
NTT Basic Research Laboratories (略称: NTT)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 後藤 秀樹 / Hideki Gotoh / ゴトウ ヒデキ
第7著者 所属(和/英) NTT物性科学基礎研究所 (略称: NTT)
NTT Basic Research Laboratories (略称: NTT)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 池田 高之 / Takayuki Ikeda / イケダ タカユキ
第8著者 所属(和/英) エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジー株式会社 (略称: NTT-AT)
NTT Advanced Technology Corporation (略称: NTT-AT)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 水野 誠一郎 / Seiichiro Mizuno / ミズノ セイイチロウ
第9著者 所属(和/英) エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジー株式会社 (略称: NTT-AT)
NTT Advanced Technology Corporation (略称: NTT-AT)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 岡本 浩 / Hiroshi Okamoto / オカモト ヒロシ
第10著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者
発表日時 2018-08-09 16:05:00 
発表時間 20 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-CPM2018-12 
巻番号(vol) IEICE-118 
号番号(no) no.179 
ページ範囲 pp.21-24 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-CPM-2018-08-02 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会