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講演抄録/キーワード
講演名 2018-03-01 15:00
低温薄膜形成研究と原子層堆積
廣瀬文彦山形大
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抄録 (和) 筆者はこれまでSiのエピタキシャル薄膜の低温成長の研究を端緒に、高品質な薄膜をいかに低温で作るかをテーマとした研究を30年間続けてきた。今日において、金属酸化物薄膜の室温原子層堆積技術を開発するに至り、その産業応用の研究を展開している。あらゆる電子デバイスは薄膜の接合であり、高品質な膜を低温で形成すること、急峻に制御された界面とすることはデバイスの性能向上と高信頼化に寄与する。本発表では、Siの低温エピタキシーと表面反応、表面界面をみることの重要さ、室温原子層堆積技術の開発について紹介する。 
(英) (Available after conference date)
キーワード (和) 薄膜成長 / 原子層堆積 / / / / / /  
(英) / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 461, CPM2017-121, pp. 23-26, 2018年3月.
資料番号 CPM2017-121 
発行日 2018-02-22 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2018-03-01 - 2018-03-02 
開催地(和) 東京工科大学 
開催地(英) Tokyo Univ. of Technol. 
テーマ(和) 電子部品材料若手ミーティング 
テーマ(英) CPM young researcher's meeting 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2018-03-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 低温薄膜形成研究と原子層堆積 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Low-temperature thin film growth and atomic layer deposition 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 薄膜成長 /  
キーワード(2)(和/英) 原子層堆積 /  
キーワード(3)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose /
第1著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata Univ (略称: Yamagata Univ)
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講演者
発表日時 2018-03-01 15:00:00 
発表時間 30 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-CPM2017-121 
巻番号(vol) IEICE-117 
号番号(no) no.461 
ページ範囲 pp.23-26 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-CPM-2018-02-22 


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