講演抄録/キーワード |
講演名 |
2018-01-31 11:20
収束イオンビーム加工によるYBCO薄膜の特性変化に関する基礎的検討 ○宮戸祐治(阪大) SCE2017-35 エレソ技報アーカイブへのリンク:SCE2017-35 |
抄録 |
(和) |
YBCO薄膜を収束イオンビームで加工すると、超伝導特性を局所的に変化させることができることを利用して、Josephson接合を作成する手法が近年、注目されている。本研究では実験において、ヘリウムあるいはネオンイオンの照射によりYBCO薄膜の特性が絶縁体的に変化したり、臨界温度が低下したりすること、さらに照射によって生じたダメージが酸素雰囲気下のアニーリング処理によって回復し、臨界温度が照射前の値の近くまで戻ることを確かめた。これらの実験の結果を解釈するため、モンテカルロ計算によるシミュレーションによって、イオン照射が薄膜内部にどのようにダメージを与えるか調べ、結果を考察した。 |
(英) |
Recently, the focused ion beam processing of YBCO thin films, leading to the local change of the superconducting characteristics, has attracted the researchers’ attention as a fabrication method of Josephson junctions. In this study, it was confirmed that the irradiation of helium or neon ion beams brought the change of YBCO film characteristics into insulating behavior or the decrease of the critical temperature, and that the critical temperature come back close to the initial value due to the recovery from the irradiation damage after annealing in an oxygen atmosphere. The experiment results were also analyzed by means of a Monte Carlo method, simulating how the incident ion could introduce the damage into the films. |
キーワード |
(和) |
YBCO薄膜 / 収束イオンビーム / ジョセフソン接合 / / / / / |
(英) |
YBCO thin films / focused ion beam / Josephson junction / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 117, no. 428, SCE2017-35, pp. 21-26, 2018年1月. |
資料番号 |
SCE2017-35 |
発行日 |
2018-01-24 (SCE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
SCE2017-35 エレソ技報アーカイブへのリンク:SCE2017-35 |
研究会情報 |
研究会 |
SCE |
開催期間 |
2018-01-31 - 2018-01-31 |
開催地(和) |
機械振興会館 |
開催地(英) |
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
テーマ(和) |
SQUID・高周波・計測技術及び応用、一般 |
テーマ(英) |
SQUID, high frequency, sensing technologies and their applications, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SCE |
会議コード |
2018-01-SCE |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
収束イオンビーム加工によるYBCO薄膜の特性変化に関する基礎的検討 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Fundamental investigation on characteristic change of YBCO thin films by focused ion beam processing |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
YBCO薄膜 / YBCO thin films |
キーワード(2)(和/英) |
収束イオンビーム / focused ion beam |
キーワード(3)(和/英) |
ジョセフソン接合 / Josephson junction |
キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
宮戸 祐治 / Yuji Miyato / ミヤト ユウジ |
第1著者 所属(和/英) |
大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2018-01-31 11:20:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
SCE |
資料番号 |
SCE2017-35 |
巻番号(vol) |
vol.117 |
号番号(no) |
no.428 |
ページ範囲 |
pp.21-26 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2018-01-24 (SCE) |