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講演抄録/キーワード
講演名
2017-12-22 14:00
IGZO薄膜を可変抵抗素子として用いた脳型集積システム
○
山川大樹
・
柴山友輝
・
生島恵典
・
杉崎澄生
(
龍谷大
)・
宮前義範
(
ローム
)・
木村 睦
(
龍谷大
)
EID2017-19 SDM2017-80
エレソ技報アーカイブへのリンク:
EID2017-19
SDM2017-80
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 117, no. 373, SDM2017-80, pp. 39-44, 2017年12月.
資料番号
SDM2017-80
発行日
2017-12-15 (EID, SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
EID2017-19 SDM2017-80
エレソ技報アーカイブへのリンク:
EID2017-19
SDM2017-80
研究会情報
研究会
SDM EID
開催期間
2017-12-22 - 2017-12-22
開催地(和)
京都大学
開催地(英)
Kyoto University
テーマ(和)
Si、Siを含む材料の作製、プロセス技術、デバイス、およびディスプレイ関連技術
テーマ(英)
Si, Si-related materials, device process, electron devices, and display technology
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2017-12-SDM-EID
本文の言語
日本語
タイトル(和)
IGZO薄膜を可変抵抗素子として用いた脳型集積システム
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Brain type integrated system using IGZO thin film as variable resistance element
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
山川 大樹
/
Daiki Yamakawa
/
ヤマカワ ダイキ
第1著者 所属(和/英)
龍谷大学
(略称:
龍谷大
)
Ryukoku University
(略称:
Ryukoku Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
柴山 友輝
/
Yuki Shibayama
/
シバヤマ ユウキ
第2著者 所属(和/英)
龍谷大学
(略称:
龍谷大
)
Ryukoku University
(略称:
Ryukoku Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
生島 恵典
/
Keisuke Ikushima
/
イクシマ ケイスケ
第3著者 所属(和/英)
龍谷大学
(略称:
龍谷大
)
Ryukoku University
(略称:
Ryukoku Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
杉崎 澄生
/
Sumio Sugisaki
/
スギサキ スミオ
第4著者 所属(和/英)
龍谷大学
(略称:
龍谷大
)
Ryukoku University
(略称:
Ryukoku Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
宮前 義範
/
Yoshinori Miyamae
/
ミヤマエ ヨシノリ
第5著者 所属(和/英)
ローム株式会社
(略称:
ローム
)
ROHM Co., Ltd.
(略称:
ROHM
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
木村 睦
/
Mutsumi Kimura
/
キムラ ムツミ
第6著者 所属(和/英)
龍谷大学
(略称:
龍谷大
)
Ryukoku University
(略称:
Ryukoku Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
(略称: )
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
(略称: )
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
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(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2017-12-22 14:00:00
発表時間
15分
申込先研究会
SDM
資料番号
EID2017-19, SDM2017-80
巻番号(vol)
vol.117
号番号(no)
no.372(EID), no.373(SDM)
ページ範囲
pp.39-44
ページ数
6
発行日
2017-12-15 (EID, SDM)
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