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講演抄録/キーワード
講演名 2017-12-22 16:00
Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果
吉岡尚輝秋田佳輝部家 彰松尾直人兵庫県立大)・小濱和之伊藤和博阪大EID2017-26 SDM2017-87 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2017-26 SDM2017-87
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文献情報 信学技報, vol. 117, no. 373, SDM2017-87, pp. 77-80, 2017年12月.
資料番号 SDM2017-87 
発行日 2017-12-15 (EID, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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研究会情報
研究会 SDM EID  
開催期間 2017-12-22 - 2017-12-22 
開催地(和) 京都大学 
開催地(英) Kyoto University 
テーマ(和) Si、Siを含む材料の作製、プロセス技術、デバイス、およびディスプレイ関連技術 
テーマ(英) Si, Si-related materials, device process, electron devices, and display technology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2017-12-SDM-EID 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effect of SiOx capping film on crystallization of Ge film by flash lamp annealing 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉岡 尚輝 / Naoki Yoshioka / ヨシオカ ナオキ
第1著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ of Hyogo)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 秋田 佳輝 / Yoshiki Akita / アキタ ヨシキ
第2著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ of Hyogo)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 部家 彰 / Akira Heya / ヘヤ アキラ
第3著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ of Hyogo)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 松尾 直人 / Naoto Matsuo / マツオ ナオト
第4著者 所属(和/英) 兵庫県立大学 (略称: 兵庫県立大)
University of Hyogo (略称: Univ of Hyogo)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 小濱 和之 / Kazuyuki Kohama / コハマ カズユキ
第5著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 和博 / Kazuhiro Itou / イトウ カズヒロ
第6著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ)
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講演者 第1著者 
発表日時 2017-12-22 16:00:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 EID2017-26, SDM2017-87 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.372(EID), no.373(SDM) 
ページ範囲 pp.77-80 
ページ数
発行日 2017-12-15 (EID, SDM) 


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