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講演抄録/キーワード
講演名 2017-12-22 13:45
Three-dimension periodic nano-structure fabricated by proximity nano-patterning process (PnP)
Xudongfang WangYasuaki IshikawaShinji ArakiYukiharu UraokaNAIST)・Seokwoo JeonKAISTEID2017-18 SDM2017-79 エレソ技報アーカイブへのリンク:EID2017-18 SDM2017-79
抄録 (和) In recent years, 3D periodic nanostructure have attracted considerable interest because of its excellent performance and can be a variety of applications such as phononic crystals. Large area, nanoshell-based 3D structures can be easily fabricated using a photoresist templating process. However, conventional nanostructures require a low-throughput process which is complicated and expensive process. One emerging solution to address this problem is called proximity field nanopatterning (PnP). The infiltration processes use liquid ZnO for a nanoshell-based 3D periodic structure with high structural flexibility and controllability. Consequently, clearly formed nanostructures were fabricated by using a photoresists called KMPR. Both of these could lead to further development toward nanoshell-based 3D structures for various applications. 
(英) In recent years, 3D periodic nanostructure have attracted considerable interest because of its excellent performance and can be a variety of applications such as phononic crystals. Large area, nanoshell-based 3D structures can be easily fabricated using a photoresist templating process. However, conventional nanostructures require a low-throughput process which is complicated and expensive process. One emerging solution to address this problem is called proximity field nanopatterning (PnP). The infiltration processes use liquid ZnO for a nanoshell-based 3D periodic structure with high structural flexibility and controllability. Consequently, clearly formed nanostructures were fabricated by using a photoresists called KMPR. Both of these could lead to further development toward nanoshell-based 3D structures for various applications.
キーワード (和) Proximity field nanopatterning (PnP) / Three-dimensional (3D) / Nanoshell-based structure / / / / /  
(英) Proximity field nanopatterning (PnP) / Three-dimensional (3D) / Nanoshell-based structure / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 373, SDM2017-79, pp. 35-38, 2017年12月.
資料番号 SDM2017-79 
発行日 2017-12-15 (EID, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 SDM EID  
開催期間 2017-12-22 - 2017-12-22 
開催地(和) 京都大学 
開催地(英) Kyoto University 
テーマ(和) Si、Siを含む材料の作製、プロセス技術、デバイス、およびディスプレイ関連技術 
テーマ(英) Si, Si-related materials, device process, electron devices, and display technology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2017-12-SDM-EID 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Three-dimension periodic nano-structure fabricated by proximity nano-patterning process (PnP) 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Proximity field nanopatterning (PnP) / Proximity field nanopatterning (PnP)  
キーワード(2)(和/英) Three-dimensional (3D) / Three-dimensional (3D)  
キーワード(3)(和/英) Nanoshell-based structure / Nanoshell-based structure  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 王 旭東方 / Xudongfang Wang / オウ キョクトウホウ
第1著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara institute of Science and Technology university (略称: NAIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 石河 泰明 / Yasuaki Ishikawa / イシカワ ヤスアキ
第2著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara institute of Science and Technology university (略称: NAIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 荒木 慎司 / Shinji Araki / アラキ シンジ
第3著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara institute of Science and Technology university (略称: NAIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 浦岡 行治 / Yukiharu Uraoka / ウラオカ ユキハル
第4著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara institute of Science and Technology university (略称: NAIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) な し / Seokwoo Jeon / ナ シ
第5著者 所属(和/英) 韓国科学技術院大学 (略称: KAIST)
Korea advanced institute of science and technology university (略称: KAIST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2017-12-22 13:45:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 EID2017-18, SDM2017-79 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.372(EID), no.373(SDM) 
ページ範囲 pp.35-38 
ページ数
発行日 2017-12-15 (EID, SDM) 


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