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| 講演名 | 2017-12-22 10:30 薄型結晶シリコン太陽電池に向けたナノインプリントテクスチャの光閉じ込め効果 ○中井雄也・石河泰明・浦岡行治（奈良先端大）  EID2017-11 SDM2017-72 エレソ技報アーカイブへのリンク：EID2017-11 SDM2017-72 |
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| 抄録 | （和） | 薄型結晶シリコン太陽電池の実現には光吸収層内での光り閉じ込め効果が重要であり，光の多重反射を目的としたテクスチャを形成することが必要である．我々はテクスチャ形成法としてナノインプリント法に注目している．本研究では表面および裏面テクスチャ単独，表面・裏面テクスチャの組み合わせについて光学シミュレーションによるシリコン内の光吸収率の評価を行った．その結果，ミクロンスケールの表面・裏面テクスチャの組み合わせは単独時と比較し，吸収率が増加する傾向が見られた．また光吸収分布より，中・長波長域で強く光を吸収するスポットが確認できた．この結果から，薄型結晶シリコン太陽電池の光閉じ込め構造にはミクロンスケールの表面・裏面テクスチャの組み合わせが有効であると考えられた． |
| （英） | For the purpose of the realization of thin-type crystal silicon solar cells, a light trapping effect in a light absorption layer is important, and forming a texture structure for the purpose of multiple reflection of light is necessary. Our group put focus on the nanoimprinting method as the texture forming method. In this report, the absorption rate by optical simulation was evaluated for the combination of the surface and rear texture alone and the combination of the surface / rear texture. As a result, the combination of surface-rear texture with the micron scale tended to increase the absorption rate compared with single side texture. In addition, from the light absorption distribution, spots region that strongly absorb light in the medium and long wavelength region were confirmed. From these results, it is considered that the combination of surface/ rear texture on the micron scale is effective for the light trapping structure of thin-type crystal silicon solar cells. | |
| キーワード | （和） | 太陽電池 / 光閉じ込め効果 / テクスチャ / ナノインプリント / 光学シミュレーション / / / |
| （英） | Solar cell / Light trapping / Texture / Nanoimprint lithography / Optical simulation / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 117, no. 373, SDM2017-72, pp. 1-4, 2017年12月. | |
| 資料番号 | SDM2017-72 | |
| 発行日 | 2017-12-15 (EID, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EID2017-11 SDM2017-72 エレソ技報アーカイブへのリンク：EID2017-11 SDM2017-72 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM EID |
| 開催期間 | 2017-12-22 - 2017-12-22 |
| 開催地（和） | 京都大学 |
| 開催地（英） | Kyoto University |
| テーマ（和） | Si、Siを含む材料の作製、プロセス技術、デバイス、およびディスプレイ関連技術 |
| テーマ（英） | Si, Si-related materials, device process, electron devices, and display technology |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2017-12-SDM-EID |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 薄型結晶シリコン太陽電池に向けたナノインプリントテクスチャの光閉じ込め効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Light trapping effect of nanoimprinted texture for thin crystalline silicon solar cell |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 太陽電池 / Solar cell |
| キーワード(2)（和/英） | 光閉じ込め効果 / Light trapping |
| キーワード(3)（和/英） | テクスチャ / Texture |
| キーワード(4)（和/英） | ナノインプリント / Nanoimprint lithography |
| キーワード(5)（和/英） | 光学シミュレーション / Optical simulation |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中井 雄也 / Nakai Yuya / ナカイ ユウヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 石河 泰明 / Ishikawa Yasuaki / イシカワ ヤスアキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 浦岡 行治 / Uraoka Yukiharu / ウラオカ ユキハル |
| 第3著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2017-12-22 10:30:00 |
| 発表時間 | 15分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | EID2017-11, SDM2017-72 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | no.372(EID), no.373(SDM) |
| ページ範囲 | pp.1-4 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2017-12-15 (EID, SDM) |
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