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講演抄録/キーワード
講演名 2017-12-07 16:50
FePt合金系エピタキシャル薄膜におけるL10規則結晶相の成長機構
二本正昭中村将大清水智貴大竹 充中大MR2017-35 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2017-35
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文献情報 信学技報, vol. 117, 2017年12月.
資料番号  
発行日 2017-11-30 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MR2017-35 エレソ技報アーカイブへのリンク:MR2017-35

研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2017-12-07 - 2017-12-08 
開催地(和) 愛媛大学 
開催地(英) Ehime Univ. 
テーマ(和) 信号処理,一般 
テーマ(英) Signal Processing, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2017-12-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) FePt合金系エピタキシャル薄膜におけるL10規則結晶相の成長機構 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Growth mechanism of L10-ordered crystal phase in FePt-based epitaxial magnetic thin films 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 二本 正昭 / Masaaki Futamoto / フタモト マサアキ
第1著者 所属(和/英) 中央大学 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 中村 将大 / Masahiro Nakamura / ナカムラ マサヒロ
第2著者 所属(和/英) 中央大学 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 智貴 / Tomoki Shimizu / シミズ トモキ
第3著者 所属(和/英) 中央大学 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 大竹 充 / Mitsuru Ohtake / オオタケ ミツル
第4著者 所属(和/英) 中央大学 (略称: 中大)
Chuo University (略称: Chuo Univ.)
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講演者
発表日時 2017-12-07 16:50:00 
発表時間 20 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 IEICE-MR2017-35 
巻番号(vol) IEICE-117 
号番号(no) no.338 
ページ範囲 pp.51-56 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-MR-2017-11-30 


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