| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2017-11-10 11:00 ［招待講演］不純物の離散性に伴った半導体デバイスモデリングの基本的側面 ～ ランダム不純物ばらつきと自己平均化 ～ ○佐野伸行（筑波大）  SDM2017-68 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2017-68 |
|
| 抄録 | （和） | ナノスケール半導体デバイスにランダムドープされたイオン化不純物の離散性による輸送特性やデバイスモデリングへの影響について，それらの物理的側面に重点をおいて考察する．具体的には，不純物密度の従来の連続的表現を離散的表現に置き換えることで表面化するデバイス・シミュレーションに暗に内在する長さのスケールの重要性を指摘する．そのうえで，ランダム不純物ばらつき（デバイス特性ばらつき）の評価に用いられるドリフト拡散法における離散不純物モデルの物理的意味を詳説する．また，散乱理論と単純化した散乱ポテンシャルを用いた量子論的手法により，１次元ナノワイヤ構造に離散分布した不純物起因の電気抵抗ばらつきや，チャネル長が大きくなるにつれて発現する自己平均化の物理機構を明らかにする． |
| （英） | The classical and quantum effects associated with discrete impurities on transport characteristics and device modeling in nano-scale semiconductor devices are discussed. We stress the importance of the length-scale implicitly involved in device simulations, which becomes apparent when the continuous description of impurity is switched into the discrete. The physics behind the discrete impurity model employed for Drift-Diffusion simulations is fully explained. Also, the impurity-limited resistance due to localized multiple impurities in quasi-1D nanowires is analytically derived by employing the scattering theory. We then discuss the variability of the resistance and the physical origin of self-averaging which shows up as the channel length gets longer. | |
| キーワード | （和） | 不純物ばらつき / デバイス・シミュレーション / クーロン・ポテンシャル / ナノワイヤ / 不純物散乱 / 多重散乱 / 自己平均化 / |
| （英） | random dopant fluctuations / device simulation / Coulomb potential / nanowire / impurity scattering / multiple-scattering / self-average / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 117, no. 290, SDM2017-68, pp. 37-42, 2017年11月. | |
| 資料番号 | SDM2017-68 | |
| 発行日 | 2017-11-02 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2017-68 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2017-68 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2017-11-09 - 2017-11-10 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 |
| テーマ（英） | Process, Device, Circuit simulation, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2017-11-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 不純物の離散性に伴った半導体デバイスモデリングの基本的側面 |
| サブタイトル（和） | ランダム不純物ばらつきと自己平均化 |
| タイトル（英） | Fundamental Aspects of Semiconductor Device Modeling associated with Discrete Impurities |
| サブタイトル（英） | Random Dopant Fluctuations and Self-Averaging |
| キーワード(1)（和/英） | 不純物ばらつき / random dopant fluctuations |
| キーワード(2)（和/英） | デバイス・シミュレーション / device simulation |
| キーワード(3)（和/英） | クーロン・ポテンシャル / Coulomb potential |
| キーワード(4)（和/英） | ナノワイヤ / nanowire |
| キーワード(5)（和/英） | 不純物散乱 / impurity scattering |
| キーワード(6)（和/英） | 多重散乱 / multiple-scattering |
| キーワード(7)（和/英） | 自己平均化 / self-average |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐野 伸行 / Nobuyuki Sano / サノ ノブユキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 筑波大学 (略称： 筑波大) University of Tsukuba (略称： Univ. Tsukuba) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第2著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第3著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第4著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第5著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第6著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第7著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第8著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第9著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第10著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第11著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第12著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第13著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第14著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第15著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2017-11-10 11:00:00 |
| 発表時間 | 60分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2017-68 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | no.290 |
| ページ範囲 | pp.37-42 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2017-11-02 (SDM) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]