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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2017-10-25 16:00 塗布型拡散剤を用いたnm対応コンフォーマルドーピング技術 ○木下哲郎・真下峻一・大橋卓矢・澤田佳宏・木下洋平・藤村悟史（TOK）  SDM2017-53 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2017-53 |
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| 抄録 | （和） | 基板種によらないウェハ上の立体構造に対してコンフォーマルに、数ナノメートル膜厚の被膜を形成できる塗布材料を開発した。本研究では種々のドーパント元素導入を試みており、立体構造に対するコンフォーマルドーピングが実現されたこと、プロセス条件の調整で拡散濃度及び深さの制御が可能であることを報告する。本技術はFinFET構造やイメージセンサーのDTI構造などの様々な立体構造に対する不純物のコンフォーマルドーピングへの適用が期待できる。 |
| （英） | We developed a coating material which can form nanoscale conformal film on the wafer with 3D structure. In this study, conformal doping to 3D structure and control of diffusion profile by tuning the process condition were demonstrated by using the coating material introduced various kinds of dopant element. This technique can be applied to the conformal doping process to FinFET or DTI of CIS with 3D structure. | |
| キーワード | （和） | コンフォーマル / ドーピング / 拡散 / イメージセンサー / FinFET / / / |
| （英） | conformal / doping / diffusion / image sensor / FinFET / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 117, no. 260, SDM2017-53, pp. 21-24, 2017年10月. | |
| 資料番号 | SDM2017-53 | |
| 発行日 | 2017-10-18 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2017-53 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2017-53 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2017-10-25 - 2017-10-26 |
| 開催地（和） | 東北大学未来研 |
| 開催地（英） | Niche, Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and New Process Technology |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2017-10-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 塗布型拡散剤を用いたnm対応コンフォーマルドーピング技術 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Nanoscale conformal doping technology by spin on diffusion source |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | コンフォーマル / conformal |
| キーワード(2)（和/英） | ドーピング / doping |
| キーワード(3)（和/英） | 拡散 / diffusion |
| キーワード(4)（和/英） | イメージセンサー / image sensor |
| キーワード(5)（和/英） | FinFET / FinFET |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 木下 哲郎 / Tetsuro Kinoshita / キノシタ テツロウ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社 (略称： TOK) Tokyo Ohka Kogyo co., LTD. (略称： TOK) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 真下 峻一 / Shunichi Mashita / マシタ シュンイチ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社 (略称： TOK) Tokyo Ohka Kogyo co., LTD. (略称： TOK) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大橋 卓矢 / Takuya Ohashi / オオハシ タクヤ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社 (略称： TOK) Tokyo Ohka Kogyo co., LTD. (略称： TOK) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 澤田 佳宏 / Yoshihiro Sawada / サワダ ヨシヒロ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社 (略称： TOK) Tokyo Ohka Kogyo co., LTD. (略称： TOK) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 木下 洋平 / Yohei Kinoshita / キノシタ ヨウヘイ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社 (略称： TOK) Tokyo Ohka Kogyo co., LTD. (略称： TOK) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 藤村 悟史 / Satoshi Fujimura / フジムラ サトシ |
| 第6著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社 (略称： TOK) Tokyo Ohka Kogyo co., LTD. (略称： TOK) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2017-10-25 16:00:00 |
| 発表時間 | 30分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2017-53 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | no.260 |
| ページ範囲 | pp.21-24 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2017-10-18 (SDM) |
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