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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2017-07-22 11:33 ［招待講演］薄膜電子材料開発のための低ダメージスパッタ成膜技術開発の歩み ○星 陽一（東京工芸大）  CPM2017-38 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2017-38 |
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| 抄録 | （和） | 著者は43年前に、始めてスパッタ法を用いてYIG膜の作製を試みる機会が与えられた。酸素負イオンや２次電子衝撃のために所望のYIG膜の作製が困難な課題であったことが、今日まで４０年以上の長い年月スパッタ法による薄膜作製技術の開発の研究に携わる契機となった。４１年前にYIG膜の作製のために開発した対向ターゲット式スパッタ法が、有機EL素子などの有機下地材料上にダメージを与えることなく電極膜を作製する方法として注目されている。ここでは、著者が取り組んできた対向ターゲット式スパッタ成膜技術の開発を中心に、低ダメージスパッタ成膜技術開発の歩みについて解説する。 |
| （英） | About 43 years ago, I firstly challenged the deposition of YIG films by using a conventional sputtering system. Deposition of stoichiometric YIG films was a difficult challenge since high energy negative oxygen ions and secondary electrons emitted from target surface bombard the substrate surface during deposition. In order to realize high rate sputter-deposition of YIG film, I studied sputtering phenomena and invented Facing-Target sputtering method in which substrate bombardment of negative oxygen ions and secondary electrons were completely suppressed. Recently, low damage sputter-deposition process using the Facing-Target sputtering method has been developed for organic devices. In this paper, history of the low damage sputter-deposition process for the formation of top electrode films in OLED will be explained. | |
| キーワード | （和） | 対向ターゲット式スパッタ法 / 酸素負イオン / ２次電子 / 有機EL素子 / 上部電極膜形成 / / / |
| （英） | Facing-Traget sputtering / negative oxygen ion / secondary electron / OLED / / low damage sputtering / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 117, no. 148, CPM2017-38, pp. 89-94, 2017年7月. | |
| 資料番号 | CPM2017-38 | |
| 発行日 | 2017-07-14 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2017-38 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2017-38 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2017-07-21 - 2017-07-22 |
| 開催地（和） | 北見工業大学第一総合研究棟２F多目的講義室 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 電子部品・材料、一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2017-07-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 薄膜電子材料開発のための低ダメージスパッタ成膜技術開発の歩み |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of Low Damage Facing Target Sputter-deposition Processes |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 対向ターゲット式スパッタ法 / Facing-Traget sputtering |
| キーワード(2)（和/英） | 酸素負イオン / negative oxygen ion |
| キーワード(3)（和/英） | ２次電子 / secondary electron |
| キーワード(4)（和/英） | 有機EL素子 / OLED |
| キーワード(5)（和/英） | 上部電極膜形成 / |
| キーワード(6)（和/英） | / low damage sputtering |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨウイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnic University (略称： Tokyo Polytechnic Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2017-07-22 11:33:00 |
| 発表時間 | 40分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2017-38 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | no.148 |
| ページ範囲 | pp.89-94 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2017-07-14 (CPM) |
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