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講演抄録/キーワード
講演名 2017-05-25 14:45
ドロップ光化学堆積法によるn型AlOx薄膜の作製
梅村将成市村正也名工大ED2017-18 CPM2017-4 SDM2017-12 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2017-18 CPM2017-4 SDM2017-12
抄録 (和) AlOxは大きなバンドギャップから可視光に対して透明であり、化学的、熱的に安定な物質である。本研究室より、基板に溶液を滴下して光を照射して堆積を行うドロップ光化学堆積(d-PCD)法によるAlOx薄膜の堆積を報告しているが、作製された薄膜は電気伝導に寄与するとされる酸素欠陥を含んでいる可能性を示唆していた。そこで本研究ではd-PCD法によってAlOx薄膜を堆積したのちに電気的特性の評価を行った。その結果、微小ではあるがn型の導電性を持つ事がわかった。 
(英) AlOx is transparent for visible rays because of its large bandgap, and stable chemically and thermally. We fabricated AlOx thin films by drop photochemical deposition (d-PCD), which was performed by dropping solution on substrate and irradiating UV light. We found a possibility that the films have oxygen-deficiency defects, which can enhance electrical conductivity. Thus, we measured electrical properties of the films. Theresults showed that the filmsy have n-type electrical conductivity.
キーワード (和) 酸化アルミニウム / AlOx / 透明 / 光化学堆積法 / 酸素欠陥 / n型 / 電気伝導 /  
(英) AlOx / oxygen-deficiency defects / electrical conductivity / n-type / PCD / / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 58, ED2017-18, pp. 17-22, 2017年5月.
資料番号 ED2017-18 
発行日 2017-05-18 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2017-18 CPM2017-4 SDM2017-12 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2017-18 CPM2017-4 SDM2017-12

研究会情報
研究会 SDM ED CPM  
開催期間 2017-05-25 - 2017-05-26 
開催地(和) 名古屋大学VBLベンチャーホール (3F) 
開催地(英) VBL, Nagoya University 
テーマ(和) 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料)およびその他 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2017-05-SDM-ED-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ドロップ光化学堆積法によるn型AlOx薄膜の作製 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of n-type AlOx thin films by drop photochemical deposition 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 酸化アルミニウム / AlOx  
キーワード(2)(和/英) AlOx / oxygen-deficiency defects  
キーワード(3)(和/英) 透明 / electrical conductivity  
キーワード(4)(和/英) 光化学堆積法 / n-type  
キーワード(5)(和/英) 酸素欠陥 / PCD  
キーワード(6)(和/英) n型 /  
キーワード(7)(和/英) 電気伝導 /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 梅村 将成 / Masanari Umemura / ウメムラ マサナリ
第1著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: NITech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 市村 正也 / Masaya Ichimura / イチムラ マサヤ
第2著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: NITech)
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講演者 第1著者 
発表日時 2017-05-25 14:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2017-18, CPM2017-4, SDM2017-12 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.58(ED), no.59(CPM), no.60(SDM) 
ページ範囲 pp.17-22 
ページ数
発行日 2017-05-18 (ED, CPM, SDM) 


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