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講演抄録/キーワード
講演名 2017-03-02 11:20
LELEダブルパターニングにおけるFMアルゴリズムを用いた効率的なパターン局所修正手法
尾頭 篤佐藤真平高橋篤司東工大
技報オンラインサービス実施中
抄録 (和) 現在の半導体設計では,高品質で短時間の設計が求められている.
近年の最先端のリソグラフィ技術では,デザインルールに従うパターンにおいても歩留まり低下の要因となるホットスポットが存在することがある.
そのため,ホットスポットのないパターンを短時間で得て設計を収束させることが求められる.
しかし,ホットスポットの有無を確認するためのリソグラフィシミュレーションにかかる時間は長く,ホットスポット解消のためのパターン修正により新たなホットスポットが生じる場合がある.
そこで本研究では,修正による新たなホットスポットの発生を抑えつつ修正後に必要なシミュレーション時間が短いパターン修正を得る手法を提案する.
手法により求めたパターン修正を用いることで,設計を短時間で収束させ,効率的な半導体設計を達成することが期待される. 
(英) In current semiconductor design, high quality and short time design is required.
In an advanced lithography technology in recent years, even in a pattern that satisfies design rule may contain spot that degrades the yield which is called hot spot.
Therefore, it is required to obtain a pattern without a hot spot in a short time and to
converge the design.
However, the time required for lithography simulation for checking the existence of hot spots
is long, and a new hot spot may be generated by pattern modification for eliminating hot spots.
Therefore, in this research, we propose a method to obtain a pattern modification with short simulation time required after modification, while suppressing the occurrence of new hot spots by modification.
By using a pattern modification obtained by the method, it is expected that the design can be converged in a short time and an efficient semiconductor design can be achieved.
キーワード (和) パターン修正 / ホットスポット / ダブルパターニング / / / / /  
(英) pattern modification / hot spot / double patterning / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 116, no. 478, VLD2016-113, pp. 67-72, 2017年3月.
資料番号 VLD2016-113 
発行日 2017-02-22 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 VLD  
開催期間 2017-03-01 - 2017-03-03 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawa Seinen Kaikan 
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2017-03-VLD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) LELEダブルパターニングにおけるFMアルゴリズムを用いた効率的なパターン局所修正手法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Efficient Local Pattern Modification Method using FM Algorithm in LELE Double Patterning 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) パターン修正 / pattern modification  
キーワード(2)(和/英) ホットスポット / hot spot  
キーワード(3)(和/英) ダブルパターニング / double patterning  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 尾頭 篤 / Atsushi Ogashira / オガシラ アツシ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo TECH)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐藤 真平 / Shimpei Sato / サトウ シンペイ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo TECH)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi / タカハシ アツシ
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo TECH)
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講演者
発表日時 2017-03-02 11:20:00 
発表時間 25 
申込先研究会 VLD 
資料番号 IEICE-VLD2016-113 
巻番号(vol) IEICE-116 
号番号(no) no.478 
ページ範囲 pp.67-72 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-VLD-2017-02-22 


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