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講演抄録/キーワード
講演名 2017-02-24 10:50
溶液法を用いた酸化亜鉛系薄膜トランジスタの作製および熱ナノインプリント法による酸化物薄膜のダイレクトパターニング
木村史哉アブドゥラ ハナキ孫 屹佐々木祥太永山幸希小山政俊前元利彦佐々誠彦阪工大ED2016-132 SDM2016-149 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2016-132 SDM2016-149
抄録 (和) 酸化亜鉛(ZnO)は3.37 eVのエネルギーバンドギャップを有するため,可視光領域において透明である.また,次世代ディスプレイの駆動用回路材料として注目を集めており,薄膜作製において種々の手法が報告されている.我々は低コスト金属のアルミニウム(Al)を添加したレアメタルフリーなAl-doped ZnO (AZO)前駆体溶液を用いて,溶液プロセスによるAZO-TFTの作製プロセスおよびその特性改善のための構造について検討したので報告する.また,微細な構造体をもつ機能デバイスの応用を目指し,ゲル状のAZO膜に直接モールドを押しつけ,熱ナノインプリント法を用いAZO酸化物薄膜への微細なダイレクトパターンニングを試みたのでそれらの結果についても報告する. 
(英) Zinc oxide (ZnO) is transparent semiconductor material in visible light wavelength because it has band gap energy of 3.37 eV. ZnO is also one of the most attracted attention semiconductor material for the next generation display TFTs. ZnO films and its TFT applications have high adaptability to various fabrication processes. In this study, we report on fabrication and characterization of AZO multi-layer thin-film transistors using AZO thin film buffers by a solution method toward the development of high-performance TFT. On the other hand, nanoimprint lithography is attracting much interest from many industrial fields because it can provide various nanostructures. Imprinted pattern with an AZO gel thin film were obtained by a thermal nanoimprint method. These results also were reported in detail for the direct patterning by a thermal nanoimprint process.
キーワード (和) 溶液法 / 酸化亜鉛 / 薄膜トランジスタ / ナノインプリント法 / / / /  
(英) Solution Method / Zinc Oxide / Thin Film Transistors / Nanoimprint Method / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 116, no. 471, ED2016-132, pp. 13-16, 2017年2月.
資料番号 ED2016-132 
発行日 2017-02-17 (ED, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2016-132 SDM2016-149 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2016-132 SDM2016-149

研究会情報
研究会 ED SDM  
開催期間 2017-02-24 - 2017-02-24 
開催地(和) 北海道大学百年記念会館 
開催地(英) Centennial Hall, Hokkaido Univ. 
テーマ(和) 機能ナノデバイスおよび関連技術 
テーマ(英) Functional nanodevices and related technologies 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2017-02-ED-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 溶液法を用いた酸化亜鉛系薄膜トランジスタの作製および熱ナノインプリント法による酸化物薄膜のダイレクトパターニング 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of Zinc Oxide-based Thin Films Transistors by a Solution Process and a Direct Patterning of Oxide Thin Films by a Thermal Nanoimprint Method 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 溶液法 / Solution Method  
キーワード(2)(和/英) 酸化亜鉛 / Zinc Oxide  
キーワード(3)(和/英) 薄膜トランジスタ / Thin Film Transistors  
キーワード(4)(和/英) ナノインプリント法 / Nanoimprint Method  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 史哉 / Fumiya Kimura / キムラ フミヤ
第1著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) アブドゥラ ハナキ / Alhanaki Abdullah / アブドゥラ ハナキ
第2著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 孫 屹 / Yi Sun / ソン イ
第3著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐々木 祥太 / Shota Sasaki / ササキ ショウタ
第4著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 永山 幸希 / Koki Nagayama / ナガヤマ コウキ
第5著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 小山 政俊 / Masatoshi Koyama / コヤマ マサトシ
第6著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 前元 利彦 / Toshihiko Maemoto / マエモト トシヒコ
第7著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐々 誠彦 / Shigehiko Sasa / ササ シゲヒコ
第8著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2017-02-24 10:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2016-132, SDM2016-149 
巻番号(vol) vol.116 
号番号(no) no.471(ED), no.472(SDM) 
ページ範囲 pp.13-16 
ページ数
発行日 2017-02-17 (ED, SDM) 


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