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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2017-02-06 15:35 ［招待講演］ビアラスト型TSVの高留まり化のためのウエット洗浄プロセスの開発 ○渡辺直也（産総研）・菊地秀和・柳澤あづさ（ラピス）・島本晴夫・菊地克弥・青柳昌宏（産総研）・中村彰男（ラピス）  SDM2016-145 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2016-145 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 116, no. 450, SDM2016-145, pp. 35-40, 2017年2月. | |
| 資料番号 | SDM2016-145 | |
| 発行日 | 2017-01-30 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2016-145 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2016-145 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2017-02-06 - 2017-02-06 |
| 開催地（和） | 東京大学/本郷 |
| 開催地（英） | Tokyo Univ. |
| テーマ（和） | 配線・実装技術と関連材料技術 |
| テーマ（英） | Interconnects, Package and related materials |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2017-02-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ビアラスト型TSVの高留まり化のためのウエット洗浄プロセスの開発 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of a Wet Cleaning Process for High-Yield Formation of via-last TSVs |
| サブタイトル（英） | |
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| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡辺 直也 / Naoya Watanabe / ワタナベ ナオヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 菊地 秀和 / Hidekazu Kikuchi / キクチ ヒデカズ |
| 第2著者 所属（和/英） | ラピスセミコンダクタ株式会社 (略称： ラピス) LAPIS Semiconductor Co., Ltd. (略称： LAPIS) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 柳澤 あづさ / Azusa Yanagisawa / ヤナギサワ アヅサ |
| 第3著者 所属（和/英） | ラピスセミコンダクタ株式会社 (略称： ラピス) LAPIS Semiconductor Co., Ltd. (略称： LAPIS) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 島本 晴夫 / Haruo Shimamoto / シマモト ハルオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 菊地 克弥 / Katsuya Kikuchi / キクチ カツヤ |
| 第5著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 青柳 昌宏 / Masahiro Aoyagi / アオヤギ マサヒロ |
| 第6著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中村 彰男 / Akio Nakamura / ナカムラ アキオ |
| 第7著者 所属（和/英） | ラピスセミコンダクタ株式会社 (略称： ラピス) LAPIS Semiconductor Co., Ltd. (略称： LAPIS) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2017-02-06 15:35:00 |
| 発表時間 | 35分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2016-145 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | no.450 |
| ページ範囲 | pp.35-40 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2017-01-30 (SDM) |
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