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講演抄録/キーワード
講演名 2016-12-08 14:15
シリコン導波路デバイス特性に及ぼす製造ばらつきの影響
堀川 剛光電子融合基盤技研/産総研)・志村大輔牛田 淳蘇武洋平椎名明美徳島正敏鄭 錫煥木下啓藏最上 徹光電子融合基盤技研)   エレソ技報アーカイブはこちら
抄録 (和) シリコンフォトニクス技術を用いた光集積回路は,長/短距離の情報伝送の広帯域化を可能にするキーデバイスとして注目されている.シリコンフォトニクス技術による光集積回路の製造における課題として,シリコン媒体の加工ばらつきの抑制による集積光学デバイスの波長特性のばらつき低減が挙げられる.今回,高いSOI厚均一性を有する300mmSOI基板上に高解像度のArF液浸露光技術を用いて試作した細線導波路,マイクロリング共振器,及び回折格子結合器等のシリコンフォトニクスのパッシブデバイスについて,デバイス特性及びその再現性をウェーハレベル光プロービングシステムにより評価し,導波路製造プロセスにおける製造ばらつきの影響を調べた結果をまとめる. 
(英) Silicon photonics has been expected as a key technology which is enable to integrate functionalities in a single chip for optical transceivers. In order to assure the reproducibility of optical circuit performance, it is a critical to reduce the variation of effective refractive index in various waveguide devices due to fabrication processes. In this study, by using an automatic wafer-level optical probing system, the experimental results of performance variations in passive devices of wire-waveguides, microring resonators, and grating couplers, which were fabricated by using highly-uniform 300-mm SOI wafers and high-resolution ArF immersion lithography. On the basis of the results, we discuss the effects of fabrication variation on device reproducibility.
キーワード (和) シリコンフォトニクス / 光集積回路 / ArF液浸露光 / 細線導波路 / マイクロリング共振器 / 回折格子結合器 / ウェーハレベル光プロービングシステム / 製造ばらつき  
(英) silicon photonics / optical integrated circuits / ArF immersion lithography / wire-waveguides / microring resonators / grating couplers / wafer-level optical probing system / fabrication variation  
文献情報 信学技報
資料番号  
発行日  
ISSN  
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研究会情報
研究会 OPE  
開催期間 2016-12-08 - 2016-12-09 
開催地(和) 石垣市商工会館(沖縄) 
開催地(英)  
テーマ(和) 光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS)、シリコンフォトニクス、その他一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2016-12-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) シリコン導波路デバイス特性に及ぼす製造ばらつきの影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effects of Fabrication Variation on the Performance of Silicon Waveguide Devices 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) シリコンフォトニクス / silicon photonics  
キーワード(2)(和/英) 光集積回路 / optical integrated circuits  
キーワード(3)(和/英) ArF液浸露光 / ArF immersion lithography  
キーワード(4)(和/英) 細線導波路 / wire-waveguides  
キーワード(5)(和/英) マイクロリング共振器 / microring resonators  
キーワード(6)(和/英) 回折格子結合器 / grating couplers  
キーワード(7)(和/英) ウェーハレベル光プロービングシステム / wafer-level optical probing system  
キーワード(8)(和/英) 製造ばらつき / fabrication variation  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 堀川 剛 / Tsuyoshi Horikawa / ホリカワ ツヨシ
第1著者 所属(和/英) 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所/国立研究開発法人 産業技術総合研究所 (略称: 光電子融合基盤技研/産総研)
Photonics Electronics Technology Research Association/National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: PETRA/AIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 志村 大輔 / Daisuke Shimura / シムラ ダイスケ
第2著者 所属(和/英) 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 (略称: 光電子融合基盤技研)
Photonics Electronics Technology Research Association (略称: PETRA)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 牛田 淳 / Jun Ushida / ウシダ ジュン
第3著者 所属(和/英) 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 (略称: 光電子融合基盤技研)
Photonics Electronics Technology Research Association (略称: PETRA)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 蘇武 洋平 / Yohei Sobu / ソブ ヨウヘイ
第4著者 所属(和/英) 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 (略称: 光電子融合基盤技研)
Photonics Electronics Technology Research Association (略称: PETRA)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 椎名 明美 / Akemi Shiina / シイナ アケミ
第5著者 所属(和/英) 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 (略称: 光電子融合基盤技研)
Photonics Electronics Technology Research Association (略称: PETRA)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 徳島 正敏 / Masatoshi Tokushima / トクシマ マサトシ
第6著者 所属(和/英) 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 (略称: 光電子融合基盤技研)
Photonics Electronics Technology Research Association (略称: PETRA)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 鄭 錫煥 / Seok-Hwan Jeong / チョン ソックファン
第7著者 所属(和/英) 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 (略称: 光電子融合基盤技研)
Photonics Electronics Technology Research Association (略称: PETRA)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 木下 啓藏 / Keizo Kinoshita / キノシタ ケイゾウ
第8著者 所属(和/英) 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 (略称: 光電子融合基盤技研)
Photonics Electronics Technology Research Association (略称: PETRA)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 最上 徹 / Tohru Mogami / モガミ トオル
第9著者 所属(和/英) 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 (略称: 光電子融合基盤技研)
Photonics Electronics Technology Research Association (略称: PETRA)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-12-08 14:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OPE 
資料番号  
巻番号(vol) vol.116 
号番号(no) no.349 
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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