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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2016-11-18 13:50 MicroWaveを用いた溶液成長法によるSnS薄膜の作製 ○早川 諒・高野 泰・石田明広（静岡大）  CPM2016-62 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2016-62 |
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| 抄録 | （和） | 溶液成長法によりスライドガラス上にSnSを堆積させた。溶液は、塩化スズ、アセトン、トリエタノールアミン(TEA)、チオアセトアミド、アンモニア水を用いて作製した。溶液の加熱はオイルバス(OBS)に加え、MicroWave(MW:マイクロ波)によって行った。CBD(Chemical Bath Deposition:溶液成長法)で用いられる典型的な組成の溶液でOBSとMWで膜を堆積させた。さらにTEAの量を変えてSnSを堆積させ、薄膜をSEM、XRD、光応答で評価した。その結果CBDとMWではスライドガラスへの堆積量に差が見られた。またCBDと異なりMWではTEAを減らすことで暗導電率、光応答は大きく上昇した。 |
| （英） | SnS thin films were deposited on glass slides in a chemical solution. The solution was prepared by mixing stannous dichloride, acetone, triethanolamine (TEA), thioacetamide, and liquid ammonia in water. The solution was heated by oil bath stirrer (OBS) or microwave oven (MW). SnS films which were deposited in the solutions with various amounts of TEA were investigated by SEM, XRD, and photo current measurement. The dark conductivity and the photo current of SnS films prepared using OBS decreased with decreasing TEA, whereas those prepared using MW incomparably increased with decreasing TEA. The sample prepared with optimized TEA content using MW has the dark conductivity and the photo current order of magnitude higher than those of the sample prepared in CBD using OBS. | |
| キーワード | （和） | SnS / 溶液成長法(CBD) / ?-?族化合物 / マイクロ波 / / / / |
| （英） | tinsulfide / chemical bath deposition / ?-? compound semiconductor / microwave / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 116, no. 311, CPM2016-62, pp. 5-10, 2016年11月. | |
| 資料番号 | CPM2016-62 | |
| 発行日 | 2016-11-11 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2016-62 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2016-62 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2016-11-18 - 2016-11-19 |
| 開催地（和） | 金沢工大 扇が丘キャンパス |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2016-11-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | MicroWaveを用いた溶液成長法によるSnS薄膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of SnS films by chemical solution deposition using microwave irradiation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | SnS / tinsulfide |
| キーワード(2)（和/英） | 溶液成長法(CBD) / chemical bath deposition |
| キーワード(3)（和/英） | ?-?族化合物 / ?-? compound semiconductor |
| キーワード(4)（和/英） | マイクロ波 / microwave |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 早川 諒 / Ryo Hayakawa / ハヤカワ リョウ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高野 泰 / Yasushi Takano / タカノ ヤスシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 石田 明広 / Akihiro Ishida / イシダ アキヒロ |
| 第3著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2016-11-18 13:50:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2016-62 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | no.311 |
| ページ範囲 | pp.5-10 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2016-11-11 (CPM) |
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