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講演抄録/キーワード
講演名 2016-11-18 16:40
自由電子レーザー照射によってカイラリティ制御された面内配向単層カーボンナノチューブの電気特性
川口大貴保延賢人石川翔梧永田知子山本 寛・○岩田展幸日大CPM2016-68 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2016-68
抄録 (和) 波長800 nmの自由電子レーザー(Free Electron Laser : FEL)、及びSiO2/Si基板を用いて単層カーボンナノチューブ(Single-Walled Carbon Nanotube : SWNT)のカイラリティ制御を試みた。また、Radial Breathing Mode (RBM)はラマン励起波長785 nmにおいてのみ確認できたことから、FEL照射によりFELのエネルギーに相当するバンドギャップを有するSWNTのみ成長させられることが確かめた。また、シート抵抗の温度変化測定結果からFEL照射サンプルは半導体的特性を持つことがわかった。 
(英) The purpose of this study is simultaneous control of in-plane alignment and chirality of single-walled carbon nanotube (SWNT). SWNT was grown on SiO2/Si substrate under the irradiation of 800 nm free electron laser (FEL). The radial breathing mode (RBM) peaks were observed only with 785 nm excitation laser, indicating that the FEL irradiation enhances the growth of SWNTs having specific bandgap, which corresponds to the photon energy of the FEL. The SWNTs showed semiconductive electrical property from the measurement results of the temperature dependence of sheet resistance.
キーワード (和) 単層カーボンナノチューブ / カイラリティ / 自由電子レーザー / 化学気相成長 / / / /  
(英) Single-Walled Carbon Nanotube / Chirality / Free Electron Laser / Chemical Vapor Deposition / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 116, no. 311, CPM2016-68, pp. 35-40, 2016年11月.
資料番号 CPM2016-68 
発行日 2016-11-11 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2016-68 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2016-68

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2016-11-18 - 2016-11-19 
開催地(和) 金沢工大 扇が丘キャンパス 
開催地(英)  
テーマ(和) 機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス,一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2016-11-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 自由電子レーザー照射によってカイラリティ制御された面内配向単層カーボンナノチューブの電気特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Electric Properties of in-plane Aligned Single-Walled Carbon Nanotubes with Specific Chirality Controlled by Free Electron Laser Irradiation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 単層カーボンナノチューブ / Single-Walled Carbon Nanotube  
キーワード(2)(和/英) カイラリティ / Chirality  
キーワード(3)(和/英) 自由電子レーザー / Free Electron Laser  
キーワード(4)(和/英) 化学気相成長 / Chemical Vapor Deposition  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 川口 大貴 / Daiki Kawaguchi / カワグチ ダイキ
第1著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 保延 賢人 / Kento Honobe / ホノベ ケント
第2著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 石川 翔梧 / Shogo Ishikawa / イシカワ ショウゴ
第3著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 永田 知子 / Tomoko Nagata / ナガタ トモコ
第4著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto / ヤマモト ヒロシ
第5著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ
第6著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
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講演者 第6著者 
発表日時 2016-11-18 16:40:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2016-68 
巻番号(vol) vol.116 
号番号(no) no.311 
ページ範囲 pp.35-40 
ページ数
発行日 2016-11-11 (CPM) 


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