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講演抄録/キーワード
講演名 2016-11-17 13:00
電磁界シミュレーションにおける金属薄膜のモデリング手法に関する基礎検討
花澤理宏中山 勝山中 稔UL JapanMW2016-119 エレソ技報アーカイブへのリンク:MW2016-119
抄録 (和) 金属薄膜の電磁波シールド効果を理論的に検討する手法としてシェルクノフの式
が用いられているが、測定結果と一致しないとの報告がある.そこで,シェルクノフの式,新たに提案されている理論式および電磁界シミュレーションを用いて金属薄膜のシールド効果を検討した.検討の結果,電磁界シミュレーションおよび新たに提案された理論式から算出したシールド特性は良好に一致した.更に金属薄膜を有する大型モデルの電磁界シミュレーションを行う際に計算メモリー削減手法についても検討を行ったので合わせて報告する. 
(英) (Not available yet)
キーワード (和) 電磁界シミュレーション / 金属薄膜 / 電磁波シールド / / / / /  
(英) / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 116, no. 310, MW2016-119, pp. 15-19, 2016年11月.
資料番号 MW2016-119 
発行日 2016-11-10 (MW) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MW2016-119 エレソ技報アーカイブへのリンク:MW2016-119

研究会情報
研究会 MW  
開催期間 2016-11-17 - 2016-11-18 
開催地(和) 佐賀大学 
開催地(英) Saga Univ. 
テーマ(和) マイクロ波一般 
テーマ(英) Microwave Technologies 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MW 
会議コード 2016-11-MW 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 電磁界シミュレーションにおける金属薄膜のモデリング手法に関する基礎検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fundametan Study on Modeling Technique of Thin Metal Film in EM Simulation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 電磁界シミュレーション /  
キーワード(2)(和/英) 金属薄膜 /  
キーワード(3)(和/英) 電磁波シールド /  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 花澤 理宏 / Masahiro Hanazawa / ハナザワ マサヒロ
第1著者 所属(和/英) 株式会社 UL Japan (略称: UL Japan)
UL Japan (略称: UL Japan)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 中山 勝 / Masaru Nakayama / ナカヤマ マサル
第2著者 所属(和/英) 株式会社 UL Japan (略称: UL Japan)
UL Japan (略称: UL Japan)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 山中 稔 / Minoru Yamanaka / ヤマナカ ミノル
第3著者 所属(和/英) 株式会社 UL Japan (略称: UL Japan)
UL Japan (略称: UL Japan)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-11-17 13:00:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 MW 
資料番号 MW2016-119 
巻番号(vol) vol.116 
号番号(no) no.310 
ページ範囲 pp.15-19 
ページ数
発行日 2016-11-10 (MW) 


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