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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2016-10-27 11:00 窒素プラズマ活性化貼付法で作製したGaInAsP/SOIハイブリッドレーザの発振特性向上 ○林 侑介・鈴木純一・井上慧史・伊東憲人・永坂久美・雨宮智宏・西山伸彦・荒井滋久（東工大）  OCS2016-36 OPE2016-77 LQE2016-52 エレソ技報アーカイブへのリンク：OPE2016-77 LQE2016-52 |
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| 抄録 | （和） | (事前公開アブストラクト) 当グループでは窒素プラズマ活性化貼付けを用いることで低温度での異種基板貼り合わせ技術を実現しており、III-V/Siハイブリッド集積への導入を提案してきた。本貼付け方法によるレーザでは初となる室温連続発振動作に成功したので今回ご報告する。 |
| （英） | (Advance abstract in Japanese is available) | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 116, no. 275, LQE2016-52, pp. 7-12, 2016年10月. | |
| 資料番号 | LQE2016-52 | |
| 発行日 | 2016-10-20 (OCS, OPE, LQE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OCS2016-36 OPE2016-77 LQE2016-52 エレソ技報アーカイブへのリンク：OPE2016-77 LQE2016-52 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE OPE OCS |
| 開催期間 | 2016-10-27 - 2016-10-28 |
| 開催地（和） | 宮崎市民プラザ（宮崎） |
| 開催地（英） | Miyazaki Citizen's Plaza |
| テーマ（和） | 超高速伝送・変復調・分散補償技術，超高速光信号処理技術，広帯域光増幅・WDM技術，受光デバイス，高光出力伝送技術，及び一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | LQE |
| 会議コード | 2016-10-LQE-OPE-OCS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 窒素プラズマ活性化貼付法で作製したGaInAsP/SOIハイブリッドレーザの発振特性向上 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Improvement in Lasing Characteristics of A GaInAsP/SOI Hybrid Laser Fabricated by N2 Plasma Activated Bonding |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / |
| キーワード(2)（和/英） | / |
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| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 林 侑介 / Yusuke Hayashi / ハヤシ ユウスケ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Titech) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鈴木 純一 / Junichi Suzuki / スズキ ジュンイチ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Titech) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 井上 慧史 / Satoshi Inoue / イノウエ サトシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Titech) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 伊東 憲人 / Kazuto Ito / イトウ カズト |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Titech) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 永坂 久美 / Kumi Nagasaka / ナガサカ クミ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Titech) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 雨宮 智宏 / Tomohiro Amemiya / アメミヤ トモヒロ |
| 第6著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Titech) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西山 伸彦 / Nobuhiko Nishiyama / ニシヤマ ノブヒコ |
| 第7著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Titech) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 荒井 滋久 / Shigehisa Arai / アライ シゲヒサ |
| 第8著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Titech) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2016-10-27 11:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | LQE |
| 資料番号 | OCS2016-36, OPE2016-77, LQE2016-52 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | no.273(OCS), no.274(OPE), no.275(LQE) |
| ページ範囲 | pp.7-12 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2016-10-20 (OCS, OPE, LQE) |
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