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講演抄録/キーワード
講演名 2016-10-21 11:10
領域分割を活用したSEM画像による照度差ステレオ
松瀬博喜上瀧 剛内村圭一熊本大)・宮本 敦日立PRMU2016-100
抄録 (和) 本稿は,走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて半導体パターンの三次元形状を再構成することを目的とする.これまでに,SEM画像を用いた照度差ステレオによる半導体パターンの三次元計測手法がいくつか提案されてきたが,影による再構成形状の歪みが,再構性精度や手法の安定収束の妨げとなっていた.提案法では,処理画像を前景・背景・中間の3領域に分割し,前景領域は1領域としてまとめて計算,背景領域の高さは常に一定という制約を追加する.これにより,影による形状歪みの抑制と高精度な影補正を行う.実際の半導体パターンに対する提案法の適用結果を通して、提案法が安定した三次元再構成を行えることを示す. 
(英) In this paper, we present a three-dimensional (3D) reconstruction method for semiconductor pattern using a scanning electron microscope (SEM). 3D reconstruction method for semiconductor pattern using SEM images by photometric stereo has been proposed several, however they have a problem that reconstruction shape is distorted due to shadows. Our proposed method divides processing image into three regions: foreground, background and middle, and sets up geometrical constraints for each region. As a result, our method restrains the shape distortion by shadows and compensates the shadow accurately. Through the application result of our method for the actual semiconductor pattern, this method indicates that perform a stable 3D reconstruction.
キーワード (和) 走査型電子顕微鏡(SEM) / 照度差ステレオ / 領域分割 / 影補正 / 半導体計測 / / /  
(英) Scanning Electron Microscope (SEM) / Photometric Stereo / Region Division / Shadowing Compensation / Semiconductor Measurement / / /  
文献情報 信学技報, vol. 116, no. 259, PRMU2016-100, pp. 55-60, 2016年10月.
資料番号 PRMU2016-100 
発行日 2016-10-13 (PRMU) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード PRMU2016-100

研究会情報
研究会 PRMU  
開催期間 2016-10-20 - 2016-10-21 
開催地(和) 宮崎大学 
開催地(英)  
テーマ(和) オープンサイエンス~研究資源と研究体制のオープン化~ 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 PRMU 
会議コード 2016-10-PRMU 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 領域分割を活用したSEM画像による照度差ステレオ 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Photometric Stereo by SEM Image Utilizing Region Division 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 走査型電子顕微鏡(SEM) / Scanning Electron Microscope (SEM)  
キーワード(2)(和/英) 照度差ステレオ / Photometric Stereo  
キーワード(3)(和/英) 領域分割 / Region Division  
キーワード(4)(和/英) 影補正 / Shadowing Compensation  
キーワード(5)(和/英) 半導体計測 / Semiconductor Measurement  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 松瀬 博喜 / Hiroki Matsuse / マツセ ヒロキ
第1著者 所属(和/英) 熊本大学 (略称: 熊本大)
Kumamoto University (略称: Kumamoto Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 上瀧 剛 / Gou Koutaki / コウタキ ゴウ
第2著者 所属(和/英) 熊本大学 (略称: 熊本大)
Kumamoto University (略称: Kumamoto Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 内村 圭一 / Keiichi Uchimura / ウチムラ ケイイチ
第3著者 所属(和/英) 熊本大学 (略称: 熊本大)
Kumamoto University (略称: Kumamoto Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮本 敦 / Atsushi Miyamoto / ミヤモト アツシ
第4著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi Ltd. (略称: Hitachi)
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講演者
発表日時 2016-10-21 11:10:00 
発表時間 30 
申込先研究会 PRMU 
資料番号 IEICE-PRMU2016-100 
巻番号(vol) IEICE-116 
号番号(no) no.259 
ページ範囲 pp.55-60 
ページ数 IEICE-6 
発行日 IEICE-PRMU-2016-10-13 


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