お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2016-10-20 14:35
エピタキシャルFe3Si強磁性薄膜における低磁場下でのスピンダイナミクス
横谷有紀山野井一人九大)・山田晋也浜屋宏平阪大)・木村 崇九大)   エレソ技報アーカイブはこちら
抄録 (和) 強磁性体の磁化ダイナミクスをデバイスに応用する上で、低磁場でも安定して動作する軟磁性材料が必要不可欠である。この軟磁性材料の最有力候補として、アモルファス磁性合金が挙げられる。しかしながら、アモルファス合金も非常に弱い磁場下では、結晶の欠陥などにより、磁化のダイナミクスが乱れる。今回我々は、エピタキシャル成長させた非常に高品質な Fe$_3$Si を用いることで、低磁場下においても周波数分散の小さなスピンダイナミクス特性を得ることに成功したので、報告を行う。 
(英) A soft-magnetic material is indispensable for applying the magnetization dynamics of ferromagnetic metal to spintronic devices. One of the candidates is an amorphous ferromagnetic alloy. However, magnetization dynamics in the amorphous ferromagnetic alloy is disturbed in low magnetic field by various factors such as crystal fault, which is not preferable to the application. In this paper, we adopt a high-quality epitaxially grown ${rm Fe_3Si}$ as a soft-magnetic material and evaluate its magnetic property. As a result, we found that ${rm Fe_3Si}$ grown on Ge substrate shows good stable spin dynamics even in the low magnetic field.
キーワード (和) スピンダイナミクス / 強磁性共鳴 / エピタキシャル薄膜 / / / / /  
(英) Spin Dynamics / Ferromagnetic Resonance / Epitaxial Thin Film / / / / /  
文献情報 信学技報
資料番号  
発行日  
ISSN  
PDFダウンロード

研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2016-10-20 - 2016-10-21 
開催地(和) 九州大学西新プラザ 
開催地(英) Nishijin Plaza 
テーマ(和) ヘッド・スピントロニクス,一般 
テーマ(英) Magnetic head, Spintronics, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2016-10-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) エピタキシャルFe3Si強磁性薄膜における低磁場下でのスピンダイナミクス 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Spin Dynamics of Epitaxial Ferromagnetic Fe3Si Thin Film in Low Magnetic Field. 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) スピンダイナミクス / Spin Dynamics  
キーワード(2)(和/英) 強磁性共鳴 / Ferromagnetic Resonance  
キーワード(3)(和/英) エピタキシャル薄膜 / Epitaxial Thin Film  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 横谷 有紀 / Yuki Yokotani / ヨコタニ ユウキ
第1著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 山野井 一人 / Kazuto Yamanoi / ヤマノイ カズト
第2著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 山田 晋也 / Shinya Yamada / ヤマダ シンヤ
第3著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 浜屋 宏平 / Kohei Hamaya / ハマヤ コウヘイ
第4著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 崇 / Takashi Kimura / キムラ タカシ
第5著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2016-10-20 14:35:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 MRIS 
資料番号  
巻番号(vol) vol.116 
号番号(no) no.258 
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会