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講演抄録/キーワード
講演名 2016-07-24 09:55
高い共鳴トンネル電流の正孔トンネル型Si1-xGex/Si系2重量子井戸共鳴トンネルダイオード
新川綾佳脇谷 実前田裕貴塚本貴広須田良幸東京農工大ED2016-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2016-33
抄録 (和) ガスソース分子線エピタキシー法を用いて作製した,正孔トンネル型Si1-xGex/Si系非対称2重量子井戸共鳴トンネルダイオード(ASDQW p-RTD)について,構造と作製プロセスの最適化を行った.結晶性の観点から,Ge組成比の最大値はおよそ0.18と分かった.また,共鳴電圧におけるコレクタ層側の障壁高さと共鳴トンネル準位の差が大きくなるようにp-RTDの設計を行った.その結果,Ge組成比0.18で作製した素子で,熱放射成分が抑制されて,共鳴トンネル電流が35 kA/cm2,山対谷電流比(PVCR)が~16の,従来より高い値を示す良好な特性が得られた. 
(英) Hole-tunneling Si1-xGex/Si asymmetric-double-quantum-well resonant tunneling diode (ASDQW p-RTD) was optimized in terms of its structure and fabrication processes with the gas-source molecular beam epitaxy (GSMBE) method. From the aspect of crystallinity, the maximum Ge content was found to be ~0.18. We also designed the p-RTD so that the difference between the barrier height, in the collector side, and the resonant tunneling energy at the resonance voltage became larger. The fabricated Si0.82Ge0.18/Si p-RTD exhibited the highest performance with a resonant tunneling current ratio (PVCR) of 16, with suppression of thermionic emission, which are larger than those reported by others by factors of 1.5 and 7, respectively.
キーワード (和) 共鳴トンネルダイオード / SiGe / / / / / /  
(英) Resonance tunneling diode / SiGe / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 116, no. 158, ED2016-33, pp. 31-34, 2016年7月.
資料番号 ED2016-33 
発行日 2016-07-16 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2016-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2016-33

研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2016-07-23 - 2016-07-24 
開催地(和) 首都大学東京 南大沢キャンパス 国際交流会館 大会議室 
開催地(英) Tokyo Metropolitan Univ. Minami-Osawa Campus, International House 
テーマ(和) 半導体プロセス・デバイス(表面、界面、信頼性)、一般 
テーマ(英) Semiconductor Processes and Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2016-07-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高い共鳴トンネル電流の正孔トンネル型Si1-xGex/Si系2重量子井戸共鳴トンネルダイオード 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Hole-Tunneling Si1-xGex/Si DQW RTD with High Resonant Current 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 共鳴トンネルダイオード / Resonance tunneling diode  
キーワード(2)(和/英) SiGe / SiGe  
キーワード(3)(和/英) /  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 新川 綾佳 / Ayaka Shinkawa / シンカワ アヤカ
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agric. and Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 脇谷 実 / Minoru Wakiya / ワキヤ ミノル
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agric. and Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 前田 裕貴 / Yuki Maeda / マエダ ユウキ
第3著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agric. and Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 塚本 貴広 / Takahiro Tsukamoto / ツカモト タカヒロ
第4著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agric. and Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 須田 良幸 / Yoshiyuki Suda /
第5著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. of Agric. and Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-07-24 09:55:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2016-33 
巻番号(vol) vol.116 
号番号(no) no.158 
ページ範囲 pp.31-34 
ページ数
発行日 2016-07-16 (ED) 


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