電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
技報オンライン
‥‥ (ESS/通ソ/エレソ/ISS)
技報アーカイブ
‥‥ (エレソ/通ソ)
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2016-05-19 16:15
セリウム置換イットリウム鉄ガーネットを用いた近赤外波長域用磁性フォトニック結晶の形成に関する研究
吉本拓矢後藤太一高木宏幸中村雄一内田裕久井上光輝豊橋技科大エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2016-20 CPM2016-8 SDM2016-25
抄録 (和) セリウム置換イットリウム鉄ガーネット(Cerium substituted yttrium iron garnet, CeYIG)を用いた磁性フォトニック結晶(Magnetophotonic crystal, MPC)を形成する際に課題となっている,CeYIGの熱処理に伴うTa2O5の結晶化に起因するMPCの特性劣化の抑制を目的として,Ta2O5へのY2O3添加による結晶化温度の上昇について検討を行った.Y2O3を添加したTa2O5(Y-Ta-O)に,CeYIGの最適な熱処理条件である,熱処理温度800ºCで30分間の真空熱処理を施した結果,Ta2O5の結晶化が抑制された.熱処理前後の試料について透過率スペクトルの測定を行い,屈折率と消衰係数を算出した結果,Y2O3を添加していないTa2O5と比較して,熱処理後のY-Ta-Oは屈折率が低下し,消衰係数が10分の1以下となった.マトリクスアプローチ法を用いてY-Ta-Oを用いたMPCの磁気光学特性の計算を行った結果,Ta2O5を用いた時よりも,高い透過率と大きな偏光面回転角を有するMPCが形成可能であることがわかった. 
(英) Tantalum oxide based composite with yttria (Y-Ta-O) films were fabricated on synthetic fused silica substrates to investigate the effect of yttria on the increase of crystallization temperature of Ta2O5. The crystallization of Ta2O5 was not observed in the film annealed at 800ºC for 30 minutes, confirmed by x-ray diffraction analysis. The refractive index and extinction coefficient of as-deposited and annealed Y-Ta-O films were calculated with the transmissivity spectra. The extinction coefficient of annealed Y-Ta-O film was 10 times lower compared with that of annealed Ta2O5 film. The magneto-optical properties of magnetophotonic crystal using Y-Ta-O were calculated by matrix approach. The calculated results indicated that the MPC using Y-Ta-O has the high transmissivity and large Faraday rotation angle.
キーワード (和) セリウム置換イットリウム鉄ガーネット / 磁性フォトニック結晶 / 光アイソレータ / / / / /  
(英) Cerium substituted yttrium iron garnet / Magnetophotonic crystal / Optical isolator / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 116, no. 49, CPM2016-8, pp. 35-38, 2016年5月.
資料番号 CPM2016-8 
発行日 2016-05-12 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

研究会情報
研究会 CPM ED SDM  
開催期間 2016-05-19 - 2016-05-20 
開催地(和) 静岡大学 工学部 (浜松キャンパス・総合研究棟) 
開催地(英) Shizuoka University, Hamamatsu campus (Joint Research Lab.) 
テーマ(和) 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料)およびその他 
テーマ(英) crystal growth、devices characterization , etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2016-05-CPM-ED-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) セリウム置換イットリウム鉄ガーネットを用いた近赤外波長域用磁性フォトニック結晶の形成に関する研究 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of magnetophotonic crystal having cerium substituted yttrium iron garnet for using at near-infrared wavelength 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) セリウム置換イットリウム鉄ガーネット / Cerium substituted yttrium iron garnet  
キーワード(2)(和/英) 磁性フォトニック結晶 / Magnetophotonic crystal  
キーワード(3)(和/英) 光アイソレータ / Optical isolator  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉本 拓矢 / Takuya Yoshimoto / ヨシモト タクヤ
第1著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: TUT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 後藤 太一 / Taichi Goto / ゴトウ タイチ
第2著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: TUT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 高木 宏幸 / Hiroyuki Takagi / タカギ ヒロユキ
第3著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: TUT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 中村 雄一 / Yuichi Nakamaura /
第4著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: TUT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 内田 裕久 / Hironaga Uchida / ウチダ ヒロナガ
第5著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: TUT)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 井上 光輝 / Mitsuteru Inoue / イノウエ ミツテル
第6著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学 (略称: 豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology (略称: TUT)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者
発表日時 2016-05-19 16:15:00 
発表時間 25 
申込先研究会 CPM 
資料番号 IEICE-ED2016-20,IEICE-CPM2016-8,IEICE-SDM2016-25 
巻番号(vol) IEICE-116 
号番号(no) no.48(ED), no.49(CPM), no.50(SDM) 
ページ範囲 pp.35-38 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-ED-2016-05-12,IEICE-CPM-2016-05-12,IEICE-SDM-2016-05-12 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会