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講演抄録/キーワード
講演名 2016-05-11 10:25
側壁ダブルパターニングのための2色グリッドに準じた配線手法
三浦発彦長谷川 充比留川 拓藤吉邦洋東京農工大VLD2016-2
抄録 (和) 高密度な LSI 製造のため、光リソグラフィの露光限界を超えて微細な加工を行なう技術の 1 つに側壁ダブルパターニング (SADP) がある。 SADP のためのレイアウト設計では、実際にリソグラフィで露光する芯材の領域に生成される一次の配線と、芯材の領域でもその周りに生成される側壁の領域でもない領域に生成される二次の配線の両方を考慮する必要があるため、設計が困難である。また、二次の配線のためにレイアウト設計後の未使用領域をダミーの配線で埋める必要があるが、その設計も困難である。そこで、予め一部に色を塗った「 2 色グリッド」を用いて厳しい制約の下で配線する手法が提案されたが、その制約は必要以上に厳しく、緩和することが望まれる。そこで本論文では、 2 色グリッドを用いた配線手法を大幅に拡張し、ネットの端子位置制約を緩和し、配線密度が比較的高い問題にも適用できる配線手法を提案する。具体的には、後にダミー配線を置くことが可能になるよう考慮しながら端子間の配線を行うことで、 SADP で製造可能なレイアウトを求めることを目標としている。提案手法を計算機実装して実験した結果、計算時間はかかるが、比較的密な問題でも配線が求められた。 
(英) Self-Aligned Double Patterning (SADP) is one of the promising manufacturing option to overcome the limit of miniaturization. However, routing design for SADP process is very complicated. In this paper, we propose a thoughtful routing method using two-color grid for SADP process. It may solve high density routing problems which cannot be solved by previous methods. Experimental results indicate that our method achieves shorter wire length.
キーワード (和) ダブルパターニング / SADP / グリッド配線 / / / / /  
(英) Double Patterning / SADP / Grid Routing / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 116, no. 21, VLD2016-2, pp. 5-10, 2016年5月.
資料番号 VLD2016-2 
発行日 2016-05-04 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2016-2

研究会情報
研究会 VLD IPSJ-SLDM  
開催期間 2016-05-11 - 2016-05-11 
開催地(和) 北九州国際会議場 
開催地(英) Kitakyushu International Conference Center 
テーマ(和) システム設計および一般 
テーマ(英) System Design, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2016-05-VLD-SLDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 側壁ダブルパターニングのための2色グリッドに準じた配線手法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Self-Aligned Double Patterning-Aware Two-color Grid Routing 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ダブルパターニング / Double Patterning  
キーワード(2)(和/英) SADP / SADP  
キーワード(3)(和/英) グリッド配線 / Grid Routing  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 三浦 発彦 / Hatsuhiko Miura / ミウラ ハツヒコ
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 長谷川 充 / Mitsuru Hasegawa / ハセガワ ミツル
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 比留川 拓 / Taku Hirukawa / ヒルカワ タク
第3著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤吉 邦洋 / Kunihiro Fujiyoshi / フジヨシ クニヒロ
第4著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-05-11 10:25:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2016-2 
巻番号(vol) vol.116 
号番号(no) no.21 
ページ範囲 pp.5-10 
ページ数
発行日 2016-05-04 (VLD) 


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