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講演抄録/キーワード
講演名 2015-12-22 11:35
レーザー誘起テラヘルツ波放射を用いたGaNの評価
酒井裕司川山 巌阪大)・中西英俊SCREEN)・斗内政吉阪大ED2015-106 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2015-106
抄録 (和) 次世代デバイス材料として注目を集めているワイドギャップ半導体GaNに対してレーザー誘起テラヘルツ(THz)波放射を用いて測定を行った.面内に放射THz波の強度分布があることがわかり,フォトルミネッセンスの測定と比較した結果,GaNの欠陥,および不純物に由来するイエロールミネッセンスの強度とTHz波の強度に強い相関があることがわかった.THz波強度の励起波長依存性を測定したところ,GaNのバンドギャップエネルギーよりも小さいフォトンエネルギーではTHz波が発生しなくなることから,欠陥/不純物準位を介しての励起は寄与していないことがわかった.考察の結果,欠陥/不純物密度により表面ポテンシャルが大きくなり,THz波が強く放射されたと結論付けた. 
(英) Wide-gap semiconductors have received significant attention for their advantages over existing semiconductors. Here, We report studies on laser-induced terahertz (THz) emission from GaN. We found that the THz emission is enhanced by defects related to yellow luminescence, and this phenomenon is explained through the modification of band structures in the surface depletion layer owing to trapped electrons at defect sites. Our results demonstrate that the surface potential in a GaN surface could be detected by laser-induced THz emission.
キーワード (和) テラヘルツ / 窒化ガリウム / 表面ポテンシャル / / / / /  
(英) Terahertz / GaN / Surface Potential / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 387, ED2015-106, pp. 89-92, 2015年12月.
資料番号 ED2015-106 
発行日 2015-12-14 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2015-106 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2015-106

研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2015-12-21 - 2015-12-22 
開催地(和) 東北大通研ナノ・スピン棟 
開催地(英) RIEC, Tohoku Univ 
テーマ(和) ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム 
テーマ(英) Millimeter-wave, terahertz-wave devices and systems 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2015-12-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) レーザー誘起テラヘルツ波放射を用いたGaNの評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Evaluation of GaN by using Laser-induced THz emission 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) テラヘルツ / Terahertz  
キーワード(2)(和/英) 窒化ガリウム / GaN  
キーワード(3)(和/英) 表面ポテンシャル / Surface Potential  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 酒井 裕司 / Yuji Sakai / サカイ ユウジ
第1著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 川山 巌 / Iwao Kawayama / カワヤマ イワオ
第2著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 中西 英俊 / Hidetoshi Nakanishi / ナカニシ ヒデトシ
第3著者 所属(和/英) SCREEN Holdings (略称: SCREEN)
SCREEN Holdings (略称: SCREEN)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 斗内 政吉 / Masayoshi Tonouchi / トノウチ マサヨシ
第4著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2015-12-22 11:35:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2015-106 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.387 
ページ範囲 pp.89-92 
ページ数
発行日 2015-12-14 (ED) 


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