お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2015-12-02 16:45
可変成形型電子ビーム露光装置のためのレイアウトのL型分割手法
星 克也藤吉邦洋東京農工大VLD2015-52 DC2015-48
抄録 (和) LSIのマスク製造に用いられている電子ビーム露光装置は矩形形状のビームしか照射できない為,レイアウトを矩形に分割して1つずつ露光していくのだが,LSIの高集積化により露光する矩形数が増え,これに伴ってマスク製造コストが増大している.
そこでL型形状のビームを照射できるように露光装置を改良する事を前提に,レイアウトを矩形とL型に分割する手法が提案されたが,この手法は必ずしも矩形とL型の合計個数が最小となる様にレイアウトを分割可能であるとは限らない.
そこで本稿では最小個数に分割する動的計画法を用いたアルゴリズムを提案する. 
(英) Since electron beam mask writers for LSI mask fabrication can only expose a rectangle shaped-beam, a layout pattern has to be decomposed into a set of rectangles, and then they are fabricated by the mask writing machine. Because of the increase of transistors in one chip, the number of rectangles in a layout is increased, so manufacturing cost is also increased. So, a method which decomposes a layout into rectangles and L-Shaped polygons was proposed on the assumption that mask writers can expose a L-Shaped beam. However, this method cannnot always obtain a set of polygons of the minimum number. In this paper, we propose a new algorithm which can decompose a layout into minimum number of rectangles and L-Shaped polygons using dynamic programming.
キーワード (和) L型分割 / 動的計画法 / 可変成形型電子ビーム露光装置 / マスクデータ / / / /  
(英) L-Shape Fracturing / Dynamic Programming / Variable Shaped Beam Mask Writer / Mask Data / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 338, VLD2015-52, pp. 87-92, 2015年12月.
資料番号 VLD2015-52 
発行日 2015-11-24 (VLD, DC) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2015-52 DC2015-48

研究会情報
研究会 VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM  
開催期間 2015-12-01 - 2015-12-03 
開催地(和) 長崎県勤労福祉会館 
開催地(英) Nagasaki Kinro Fukushi Kaikan 
テーマ(和) デザインガイア2015 -VLSI設計の新しい大地- 
テーマ(英) Design Gaia 2015 -New Field of VLSI Design- 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2015-12-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 可変成形型電子ビーム露光装置のためのレイアウトのL型分割手法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Layout Decomposition into L-Shaped Parts for Variable Shaped-Beam Mask Writer 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) L型分割 / L-Shape Fracturing  
キーワード(2)(和/英) 動的計画法 / Dynamic Programming  
キーワード(3)(和/英) 可変成形型電子ビーム露光装置 / Variable Shaped Beam Mask Writer  
キーワード(4)(和/英) マスクデータ / Mask Data  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 星 克也 / Katsuya Hoshi / ホシ カツヤ
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤吉 邦洋 / Kunihiro Fujiyoshi / フジヨシ クニヒロ
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2015-12-02 16:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2015-52, DC2015-48 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.338(VLD), no.339(DC) 
ページ範囲 pp.87-92 
ページ数
発行日 2015-11-24 (VLD, DC) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会