電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
技報オンライン
‥‥ (ESS/通ソ/エレソ/ISS)
技報アーカイブ
‥‥ (エレソ/通ソ)
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2015-12-02 14:55
[招待講演]EDA研究最前線 ~ テキサス大学留学経験より ~
松縄哲明東芝
技報オンラインサービス実施中(エレソは開催日の前後のみ)  エレソ技報アーカイブはこちら
抄録 (和) EDAの研究は国際競争の激しい分野の一つである.
この分野で著名な国際会議であるDACやICCADは,論文の採択率が20 % 台と大変競争率が高いことで知られている.
米国の大学には,これらの難関国際会議で継続して研究成果を発表している活発な研究室が数多く存在する.
そのような研究室にはいくつかの共通点がある.
一例を挙げると,前述の研究室は多くの大変優秀な留学生を惹きつけ,受け入れている.
また,様々な大学や企業と協力関係を築き,新しい研究テーマを開拓し続けている.
さらに,たとえ顕著な研究成果が得られずとも,密なコミュニケーションを通してひたむきに改善を続け,最後には必ず国際会議での発表にこぎつけるのである.
本講演では,1年半の留学経験に基づいて,テキサス大学の一研究室から見たEDA研究の取り組みについて述べる.
具体的には,講演者自身が取り組んだ機械学習を応用したDesign for Manufacturability (DFM)に関する研究と,学生達のテーマの選び方や研究への取り組み方,論文執筆の流れなどについて紹介する. 
(英) International competition in EDA research is getting more intense.
In major international conference, such as DAC or ICCAD, the acceptance ratio of submitted papers is not more than 20 $sim$ 30 % which indicates severe competition in this research field.
There are many laboratories active in continuously getting many accepted papers from the conferences in universities in the United States.
They have crucial common elements.
One example is that the laboratories have attracted excellent talent in electrical and computer engineering from other countries.
Also, they are actively trying to find new research topics and novel solutions while establishing good collaboration with other universities, companies or national research institutes.
Besides, they continue improving their way of thinking, through discussion with the laboratory members, even when experimental results are not significant.
Then, eventually, they present research outcomes at the tough international conferences.
This lecture presents EDA research activities from the perspective of visiting scholar based on the experience of a collaborative research with The University of Texas at Austin for one-and-a-half years.
キーワード (和) Electronic Design Automation (EDA) / Design for Manufacturability (DFM) / Machine Learning / Computational Lithography / / / /  
(英) Electronic Design Automation (EDA) / Design for Manufacturability (DFM) / Machine Learning / Computational Lithography / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 338, VLD2015-50, pp. 73-73, 2015年12月.
資料番号 VLD2015-50 
発行日 2015-11-24 (VLD, DC) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380

研究会情報
研究会 VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM  
開催期間 2015-12-01 - 2015-12-03 
開催地(和) 長崎県勤労福祉会館 
開催地(英) Nagasaki Kinro Fukushi Kaikan 
テーマ(和) デザインガイア2015 -VLSI設計の新しい大地- 
テーマ(英) Design Gaia 2015 -New Field of VLSI Design- 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2015-12-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) EDA研究最前線 
サブタイトル(和) テキサス大学留学経験より 
タイトル(英) EDA Research Activities in The University of Texas at Austin 
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英) Electronic Design Automation (EDA) / Electronic Design Automation (EDA)  
キーワード(2)(和/英) Design for Manufacturability (DFM) / Design for Manufacturability (DFM)  
キーワード(3)(和/英) Machine Learning / Machine Learning  
キーワード(4)(和/英) Computational Lithography / Computational Lithography  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 松縄 哲明 / Tetsuaki Matsunawa /
第1著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第2著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者
発表日時 2015-12-02 14:55:00 
発表時間 30 
申込先研究会 VLD 
資料番号 IEICE-VLD2015-50,IEICE-DC2015-46 
巻番号(vol) IEICE-115 
号番号(no) no.338(VLD), no.339(DC) 
ページ範囲 p.73 
ページ数 IEICE-1 
発行日 IEICE-VLD-2015-11-24,IEICE-DC-2015-11-24 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会