講演抄録/キーワード |
講演名 |
2015-11-06 15:50
表面処理条件の異なるYAlO3(001)基板上に成膜したCr2O3薄膜の結晶構造解析および磁気特性 橋本浩佑・隅田貴士・福井慎二郎・永田知子・山本 寛・○岩田展幸(日大) CPM2015-90 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2015-90 |
抄録 |
(和) |
YAlO3(001)基板を5M及び12MのNaOH水溶液でエッチングし、Cr2O3薄膜の表面状態および結晶構造を評価した。5MのNaOHでエッチングしたYAO基板は、隣り合うステップで摩擦力が異なりステップ高さもハーフユニット分であった。12MでエッチングしたYAO基板はステップの高さが1ユニットであるものの、テラス終端は波状でありステップ間の深い溝やテラス表面の粒子が確認した。それぞれの基板上にCr2O3を成膜した。5Mで処理を行った基板では単一グレインに着目するとnmオーダで平坦な薄膜が成長していたのに対し、12Mで処理を行ったものでは4.3nm程度の高低差を持つ表面となった。逆格子マップより、YAO[010]oにCr2O3 [-111]h及びCr2O3 [1-1-1]h方向の2種類の傾きをもって成長していることがわかった。 |
(英) |
The Cr2O3 thin films are fabricated on YAlO3(YAO)(001) substrates etched with 5M and or 12M NaOH solutions. After the etching with 5M NaOH, the surface showed clear step-terrace structure though the step height was half-unit and the terraces showed different friction force alternately. After the etching with 12M NaOH, the step height was one-unit though the wavy terrace-edge, trenches and small particles are observed along the steps. These results suggest the imperfect etching with 5M NaOH and excessive etching with 12M NaOH. Each Cr2O3 grain showed atomically flat surface on YAO etched with 5M NaOH, while rough surface with ~4.3 nm difference in height was obtained on YAO etched with 12M NaOH. There are two crystal domain in the Cr2O3 film. The [-111]h direction of Cr2O3 r-plane is parallel to the [010]o onYAO. |
キーワード |
(和) |
Cr2O3 / 薄膜 / YAlO3 / / / / / |
(英) |
Cr2O3 / films / YAlO3 / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 115, no. 297, CPM2015-90, pp. 31-35, 2015年11月. |
資料番号 |
CPM2015-90 |
発行日 |
2015-10-30 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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